[實用新型]一種干法刻蝕設備及其頂蓋有效
| 申請號： | 201920859931.5 | 申請日： | 2019-06-06 |
| 公開（公告）號： | CN210015835U | 公開（公告）日： | 2020-02-04 |
| 發明（設計）人： | 薛榮華;闞保國;劉家樺;葉日銓 | 申請（專利權）人： | 德淮半導體有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 31295 上海思捷知識產權代理有限公司 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 223300 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 頂蓋 上頂蓋 下頂蓋 移開 本實用新型 把手 干法刻蝕設備 抓取 日常維護 維修 蓋合 腔室 保養 預防 | ||
1.一種干法刻蝕設備的頂蓋，所述頂蓋具有腔室，其特征在于，所述頂蓋包括下頂蓋和上頂蓋，所述上頂蓋配合設置在所述下頂蓋上，所述上頂蓋遠離所述下頂蓋的一側具有一把手，所述把手固定在所述上頂蓋上。
2.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的頂蓋，其特征在于，所述下頂蓋為兩端開口的環狀殼體。
3.如權利要求2所述的干法刻蝕設備的頂蓋，其特征在于，所述上頂蓋為板件，且所述頂蓋的腔室形成在所述下頂蓋內。
4.如權利要求2所述的干法刻蝕設備的頂蓋，其特征在于，所述上頂蓋為一端開口的殼體。
5.如權利要求4所述的干法刻蝕設備的頂蓋，其特征在于，所述上頂蓋包括蓋板和上子頂蓋，所述蓋板蓋合在所述上子頂蓋上，所述上子頂蓋蓋合在所述下頂蓋上。
6.如權利要求5所述的干法刻蝕設備的頂蓋，其特征在于，所述上子頂蓋為兩端開口的環狀殼體，其形狀與所述下頂蓋匹配，所述蓋板為板件，且所述頂蓋的腔室形成在所述上子頂蓋和下頂蓋內。
7.如權利要求6所述的干法刻蝕設備的頂蓋，其特征在于，所述上子頂蓋和蓋板一體成型。
8.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的頂蓋，其特征在于，所述上頂蓋蓋合在所述下頂蓋上。
9.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的頂蓋，其特征在于，所述上頂蓋朝向所述下頂蓋一側具有凸起，所述下頂蓋朝向所述上頂蓋一側與所述凸起相匹配的凹槽，所述凸起設置在所述凹槽中。
10.一種干法刻蝕設備，其特征在于，包括如權利要1-9所述的頂蓋。
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