[實用新型]一種包裝阻隔膜

有效

• 申請號: 201920796401.0
• 申請日: 2019-05-29
• 公開（公告）號: CN210529033U
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 胡文瑋
• 申請（專利權）人: 汕頭萬順新材集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/10;C23C14/06;C23C14/30;B65D65/40
• 代理公司: 廣州知順知識產權代理事務所(普通合伙) 44401
• 代理人: 彭志堅;張海英

本實用新型提供一種包裝阻隔膜，包括基膜，于基膜上設置阻隔層，阻隔層由下而上依次為金屬氧化物層、金屬氧化物?氧化硅漸變層、氧化硅層；或阻隔層由下而上依次為金屬氮氧化物層、金屬氮氧化物?氮氧化硅漸變層、氮氧化硅層。本實用新型的包裝阻隔膜的阻隔性能優異，有效減少水氣侵入。

技術領域

本實用新型涉及保護膜技術領域，尤其涉及一種包裝阻隔膜。

背景技術

專利號為201580002853.1的中國專利揭示了一種波長轉換片材保護膜，該保護膜的O/Si比例控制在1.7～2.0之間，可得到優秀的水蒸氣阻隔效果以及良好的光學透射率。但是，由于O/Si比例處于不飽和狀態，該狀態下O₂含量非常的敏感，些微之O₂波動就會影響鍍膜速率，造成厚度的差異；尤其是大幅寬連續性的生產上，易造成寬度、長度均勻性上的偏差，從而導致良品率低。

實用新型內容

本實用新型提供一種生產過程穩定，提高良品率，且阻隔性能優異，有效減少水氣侵入的包裝阻隔膜。

本實用新型采用的技術方案為：一種包裝阻隔膜，其包括：基膜，于基膜上設置一阻隔層，所述阻隔層由下而上依次為金屬氧化物層、金屬氧化物-氧化硅漸變層、氧化硅層；或所述阻隔層由下而上依次為金屬氮氧化物層、金屬氮氧化物-氮氧化硅漸變層、氮氧化硅層。

進一步地，所述金屬氧化物層為鈦的氧化物層、鋁的氧化物層、鋅的氧化物層、或錫的氧化物層，所述金屬氮氧化物層為鈦的氮氧化物層、鋁的氮氧化物層、鋅的氮氧化物層、或錫的氮氧化物層。。

進一步地，所述基膜厚度介于6um～50um之間。

進一步地，所述基膜厚度介于6um～38um之間。

進一步地，所述基膜厚度介于6um～25um之間。

進一步地，所述阻隔層厚度介于10nm～60nm之間。

進一步地，所述金屬氧化物層及所述金屬氧化物-氧化硅漸變層的厚度之和介于所述阻隔層總厚度的10％～90％之間。

進一步地，所述金屬氧化物層及所述金屬氧化物-氧化硅漸變層的厚度之和介于所述阻隔層總厚度的10％～50％之間。

進一步地，所述金屬氧化物-氧化硅漸變層的厚度介于所述金屬氧化物層及所述金屬氧化物-氧化硅漸變層厚度之和的10％～90％之間。

進一步地，所述金屬氧化物-氧化硅漸變層的厚度介于所述金屬氧化物層及所述金屬氧化物-氧化硅漸變層厚度之和的10％～50％之間。

相較于現有技術，本實用新型的包裝阻隔膜通過將阻隔層設置為由下而上依次為金屬氧化物層、金屬氧化物-氧化硅漸變層、氧化硅層；或由下而上依次為金屬氮氧化物層、金屬氮氧化物-氮氧化硅漸變層、氮氧化硅層；從而使得包裝阻隔膜的阻隔性能優異，有效減少水氣侵入。

附圖說明

附圖是用來提供對本實用新型的進一步理解，并構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本實用新型，但不應構成對本實用新型的限制。在附圖中，

圖1：本實用新型包裝阻隔膜的生產系統；

圖2：本實用新型包裝阻隔膜一實施例的示意圖；

圖3：本實用新型包裝阻隔膜另一實施例的示意圖；

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本實用新型，并不用于限制本實用新型。