[實用新型]左右對稱式CVD系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920788266.5 | 申請日: | 2019-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN210261994U | 公開(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫正乾;于葛亮;唐陽;王永慧 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫盈芯半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務(wù)所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;涂三民 |
| 地址: | 214187 江蘇省無錫市惠*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 左右 對稱 cvd 系統(tǒng) | ||
1.一種左右對稱式CVD系統(tǒng),它包括左驅(qū)動器(11)、左放樣腔體(12)、左滑塊(13)、左送樣桿(15)、左加熱爐(16)、右驅(qū)動器(21)、右放樣腔體(22)、右滑塊(23)、右送樣桿(25)、右加熱爐(26)與連接管(7);其特征是:所述左放樣腔體(12)的右端部與連接管(7)的左端部固定相連,連接管(7)的右端部與右放樣腔體(22)的左端部固定相連,在連接管(7)的外部設(shè)有左加熱爐(16)與右加熱爐(26),在左放樣腔體(12)的左側(cè)設(shè)有左滑塊(13)與左驅(qū)動器(11),左滑塊(13)由左驅(qū)動器(11)驅(qū)動,在左滑塊(13)上固定有左送樣桿(15),左送樣桿(15)伸入左放樣腔體(12)與連接管(7)內(nèi),在右放樣腔體(22)右側(cè)設(shè)有右滑塊(23)與右加熱爐(26),右滑塊(23)由右加熱爐(26)驅(qū)動,在右滑塊(23)上固定有右送樣桿(25),右送樣桿(25)伸入右放樣腔體(22)與連接管(7)內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的左右對稱式CVD系統(tǒng),其特征是:在左放樣腔體(12)內(nèi)設(shè)有左支撐環(huán)(14),所述左送樣桿(15)穿過左支撐環(huán)(14)。
3.如權(quán)利要求1所述的左右對稱式CVD系統(tǒng),其特征是:在右放樣腔體(22)內(nèi)設(shè)有右支撐環(huán)(24),所述右送樣桿(25)穿過右支撐環(huán)(24)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





