[實(shí)用新型]卡托真空鍍治具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920775881.2
• 申請日: 2019-05-27
• 公開（公告）號: CN210030880U
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 杜洋洋;盛偉軍
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞景欣塑膠制品有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50
• 代理公司: 11316 北京一格知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 王科

1.一種卡托真空鍍治具，適用于承載卡托進(jìn)行真空鍍加工，其特征在于，包括上蓋、中蓋及下蓋，所述下蓋固定扣合于所述上蓋的底部，所述中蓋密閉夾緊于所述上蓋與所述下蓋之間，所述上蓋上形成有若干凸臺，所述凸臺均開設(shè)有豎直貫穿的承載孔，所述中蓋上開設(shè)有與所述承載孔一一豎直正對的定位孔，所述卡托的上端承載插置于所述承載孔內(nèi)，且所述卡托定位插置于所述定位孔內(nèi)。

2.如權(quán)利要求1所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述承載孔前后相對的兩側(cè)壁上均形成有承載臺階，所述卡托上端前后兩側(cè)的凸塊承載于對應(yīng)的所述承載臺階上。

3.如權(quán)利要求1所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述凸臺的頂部形成有環(huán)繞所述承載孔的環(huán)形避讓臺階。

4.如權(quán)利要求3所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述環(huán)形避讓臺階的邊緣與所述卡托頂部邊緣之間的間距為0.3～1.0mm。

5.如權(quán)利要求3所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述環(huán)形避讓臺階的底部與所述卡托之間形成有間隙。

6.如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述凸臺呈沿前后方向及左右方向均勻排列。

7.如權(quán)利要求1所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述中蓋于每一所述定位孔的左右兩側(cè)均向下延伸形成有夾緊臂，兩所述夾緊臂呈彈性的夾緊抵觸于所述卡托的左右兩側(cè)。

8.如權(quán)利要求1所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述上蓋上形成有開口朝下的中空結(jié)構(gòu)，所述中蓋插置于所述中空結(jié)構(gòu)內(nèi)。

9.如權(quán)利要求1所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述中蓋的上側(cè)形成有上定位臺階，所述中蓋的下側(cè)形成有下定位臺階，所述上蓋卡合定位于所述上定位臺階上，所述下蓋卡合定位于所述下定位臺階上。

10.如權(quán)利要求1所述的卡托真空鍍治具，其特征在于，所述下蓋的左右兩側(cè)均向上延伸形成有相對的倒鉤，所述上蓋的左右兩側(cè)形成有供所述倒鉤一一對應(yīng)扣合的扣合孔。