[實用新型]一種可用于曝光機的LED列陣排列模塊有效
| 申請號: | 201920762340.6 | 申請日: | 2019-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN209879253U | 公開(公告)日: | 2019-12-31 |
| 發明(設計)人: | 余光輝 | 申請(專利權)人: | 中山市漢斯威爾機械有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 50125 重慶創新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 彭啟龍 |
| 地址: | 528476 廣東省中山市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電路板 本實用新型 燈珠 模塊化結構 發光均勻 光源模塊 橫向直線 排列模塊 平行固定 曝光效果 陣列模塊 感光膜 面間隔 曝光機 數量比 相鄰組 中垂線 構建 可用 集合 曝光 | ||
本實用新型公開了一種可用于曝光機的LED列陣排列模塊,包括電路板,所述電路板平行固定在感光膜載體的下方,所述電路板一端面間隔排列有A組燈和B組燈,所述A組燈和所述B組燈均由若干相同的LED燈珠橫向直線排列組成,所述LED燈珠位于其相鄰組的兩相鄰所述LED燈珠的中垂線上,所述B組燈的燈珠數量比所述A組燈的燈珠數量多1個。與現有技術相比,本實用新型通過LED燈珠的掠影角度來構建陣列模塊,形成發光均勻的集合光源模塊,曝光效果穩定,且該模塊化結構,可方便地按照需要曝光的面積尺寸進行組合,使用方便且適用范圍較廣等有益效果。
技術領域
本發明涉及LED應用技術領域,具體為一種可用于曝光機的LED列陣排列模塊。
背景技術
曝光機,是在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠)進行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學性質發生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形。因此,電子束光源是否均勻穩定直接決定了曝光成像質量的好壞。
現有的曝光機光源一般采用集合型LED光源,即把多顆大功率的LED集中一小塊的電路板上,代替舊有的曝光燈。在大面積曝光的應用中,一般是根據曝光面積用多組LED燈簡單排列疊加而成,這種疊加結構較難做到曝光均勻,很容易產生不合格產品。
因此,有必要對大面積曝光的光源進行改進,對光源的排列組合進行模塊化的設計,使得曝光效果均勻穩定,提升曝光光源工作效率。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種可用于曝光機的LED列陣排列模塊,按LED燈珠的掠影角度,按照一定規律列陣排列并形成模塊化結構,以解決背景技術中提到的大面積曝光時,多組LED排列疊加的光源容易產生曝光不均勻的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:一種可用于曝光機的LED列陣排列模塊,包括電路板,所述電路板平行固定在感光膜載體的下方,所述電路板一端面間隔排列有A組燈和B組燈,所述A組燈和所述B組燈均由若干相同的LED燈珠橫向直線排列組成,所述LED燈珠位于其相鄰組的兩相鄰所述LED燈珠的中垂線上,所述B組燈的燈珠數量比所述A組燈的燈珠數量多1個。
為了確保集合光源的光照均勻,進一步的,所述每組相鄰的LED燈珠的橫向間距均相等,所述相鄰組的LED燈珠的縱向間距均相等,所述每組燈中最邊緣的所述LED燈珠距所述電路板邊緣的最近距離均相等。
為了確保集合光源的光照均勻,進一步的,所述橫向間距為所述縱向間距的兩倍。
為了減小電路板的尺寸以降低制造成本,優選的,所述最近距離小于所述縱向間距的一半。
為了確保集合光源的光照強度,優選的,所述電路板與所述感光膜載體的垂直距離介于所述橫向間距的一倍與兩倍之間。
在實際應用中,可以根據曝光設備規格或所需要曝光區域尺寸的大小,選用若干組本實用新型的列陣排列模塊,進行橫向或縱向的排列組合,以滿足使用需要。
有益效果
與現有技術相比,本實用新型的有益效果如下:
(1)本實用新型通過采用多顆LED粒按照燈珠的掠影角度構建陣列模塊,形成發光均勻的集合光源模塊,曝光效果穩定;
(2)本實用新型構建的陣列模式可形成模塊化結構,可方便地按照需要曝光的面積尺寸進行組合,使用方便且適用范圍較廣。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例平面結構示意圖;
圖2為本實用新型中單個LED燈珠4的映像范圍示意圖;
圖3為本實用新型光照映像范圍示意圖;
圖4為本實用新型工作示意圖;
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