[實(shí)用新型]一種MOCVD反應(yīng)室

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920738382.6
• 申請(qǐng)日: 2019-05-22
• 公開（公告）號(hào): CN210341058U
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉永明;馬旺;李毓鋒;王成新
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東浪潮華光光電子股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455;C23C16/46;C23C16/458
• 代理公司: 濟(jì)南金迪知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37219
• 代理人: 許德山

1.一種MOCVD反應(yīng)室，其特征在于，包括上蓋、側(cè)壁、底蓋、噴頭、托盤，所述上蓋、側(cè)壁、底蓋包圍形成反應(yīng)腔室，所述噴頭、托盤設(shè)置在所述反應(yīng)腔室內(nèi)，所述底蓋上設(shè)置有尾氣出口，所述底蓋上還設(shè)置有所述托盤，所述側(cè)壁內(nèi)設(shè)置有所述噴頭，所述上蓋內(nèi)向下設(shè)置有頂部加熱器，所述底蓋上設(shè)置有兩個(gè)底部加熱器，兩個(gè)所述底部加熱器位于尾氣出口的兩側(cè)，所述底部加熱器位于所述托盤與所述底蓋之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種MOCVD反應(yīng)室，其特征在于，所述頂部加熱器與所述托盤之間的距離為1.5cm-5cm，所述底部加熱器與所述托盤之間的距離為1.5cm-5cm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種MOCVD反應(yīng)室，其特征在于，所述頂部加熱器與所述托盤之間的距離為3cm，所述底部加熱器與所述托盤之間的距離為2cm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種MOCVD反應(yīng)室，其特征在于，所述上蓋內(nèi)通過(guò)吊架連接所述頂部加熱器，所述底蓋上通過(guò)支架支撐連接所述底部加熱器。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種MOCVD反應(yīng)室，其特征在于，所述底蓋上通過(guò)托盤承載架支撐連接所述托盤。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種MOCVD反應(yīng)室，其特征在于，所述頂部加熱器及底部加熱器均包括片狀回形結(jié)構(gòu)的加熱片，加熱片的一端連接正極，加熱片的另一端連接負(fù)極。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的一種MOCVD反應(yīng)室，其特征在于，所述托盤上設(shè)有孔，托盤上設(shè)置的孔、底蓋上設(shè)置的尾氣出口與MOCVD反應(yīng)室腔內(nèi)連通，產(chǎn)生的尾氣依次通過(guò)托盤上設(shè)置的孔、底蓋上設(shè)置的尾氣出口排出。