[實用新型]一種用于磁鐵密封的結構有效
| 申請號: | 201920728679.4 | 申請日: | 2019-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN210112363U | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發明(設計)人: | 趙良超;李洪;何小中;楊國君;龐健;馬超凡 | 申請(專利權)人: | 四川玖誼源粒子科技有限公司 |
| 主分類號: | H05H13/00 | 分類號: | H05H13/00;H05H7/00 |
| 代理公司: | 成都乾睿知識產權代理有限公司 51273 | 代理人: | 竇杰平 |
| 地址: | 621000 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 磁鐵 密封 結構 | ||
1.一種用于磁鐵密封的結構,其特征在于:包括從上到下依次設置的上蓋板、上磁極、真空盒、下磁極和下蓋板;所述真空盒具有分別與上磁極和下磁極接觸的密封端面;真空盒的密封端面上設有雙層密封槽,每層密封槽內均設有密封圈。
2.根據權利要求1所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:所述真空盒為筒狀結構,所述真空盒的上端為真空盒上密封端面,所述真空盒的下端為真空盒下密封端面,雙層密封槽分別設置在真空盒上密封端面和真空盒下密封端面上。
3.根據權利要求1所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:所述真空盒上密封端面和真空盒下密封端面之間為真空盒的筒壁,所述筒壁上連接有對稱設置的內靶連接法蘭和離子源連接法蘭。
4.根據權利要求3所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:所述內靶連接法蘭與內靶之間以及離子源與離子源連接法蘭之間分別設置有密封墊。
5.根據權利要求4所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:真空盒的筒壁上設有對稱設置的兩個束流引出端,所述離子源連接法蘭位于兩個束流引出端的中間位置。
6.根據權利要求5所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:束流引出端上設置有密封環。
7.根據權利要求3所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:真空盒的筒壁上設有觀察窗,所述觀察窗靠近離子源連接法蘭。
8.根據權利要求1所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:所述上磁極和所述下磁極靠近真空盒的一面上均設置有向內突出的山區以及向外突出的谷區;同一個磁極上,所有山區和谷區交叉設置;同一個磁極上,所有山區和谷區一起形成一個圓截面。
9.根據權利要求8所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:所述山區和谷區均為扇形結構。
10.根據權利要求9所述的用于磁鐵密封的結構,其特征在于:所述山區的角度范圍為53°-63°,所述谷區的角度范圍為25°-35°。
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