[實用新型]一種蝕刻系統有效
| 申請號: | 201920724124.2 | 申請日: | 2019-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN210093691U | 公開(公告)日: | 2020-02-18 |
| 發明(設計)人: | 郭立銘 | 申請(專利權)人: | 惠州市捷成機電設備股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/06 | 分類號: | H05K3/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 516200 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 蝕刻 系統 | ||
本實用新型涉及一種蝕刻系統。該蝕刻系統包括動力裝置、第一輸送管、第二輸送管及噴淋裝置;動力裝置用于輸送藥液;第一輸送管和第二輸送管與動力裝置連接,第一輸送管與第二輸送管呈對稱分布;動力裝置將藥液分別輸送給第一輸送管和第二輸送管;噴淋裝置包括多個第一噴淋裝置和多個第二噴淋裝置,多個第一噴淋裝置分別與第一輸送管連接,多個第二噴淋裝置分別與第二輸送管連接;多個第一噴淋裝置和多個第二噴淋裝置均呈行列排布,第一噴淋裝置第二噴淋裝置一一對應;第一噴淋裝置相對基板均成傾斜設置,相鄰行的第一噴淋裝置分別朝兩個相對的方向傾斜。上述蝕刻系統,能夠減少水池效應,同時有效控制蝕刻因子,提高蝕刻效率。
技術領域
本實用新型涉及機械加工技術領域,特別是涉及一種蝕刻系統。
背景技術
隨著工業的發展,印制電路板向多層化、密集化、柔性化方向發展,線條越來越細、銅厚卻不斷增加。因此,對蝕刻工藝要求越來越高。此外,蝕刻廢液對生態環境產生嚴重影響,迫使人們不斷開發新的蝕刻技術,以提高蝕刻工藝,提高藥水利用率,減少水池效應,滿足印制電路板發展及減少環境影響。
實用新型內容
基于此,有必要針對如何較少水池效應和提高藥水利用率的問題,提供一種蝕刻系統。
一種蝕刻系統,包括:
動力裝置,所述動力裝置用于輸送藥液;
輸送管組,所述輸送管組包括第一輸送管和第二輸送管,所述第一輸送管和所述第二輸送管均與所述動力裝置連接,且所述第一輸送管與所述第二輸送管呈對稱分布;所述動力裝置將所述藥液分別輸送給所述第一輸送管和所述第二輸送管;
噴淋裝置,所述噴淋裝置包括多個第一噴淋裝置和多個第二噴淋裝置,多個所述第一噴淋裝置分別與所述第一輸送管連接,多個所述第二噴淋裝置分別與所述第二輸送管連接;多個所述第一噴淋裝置呈行列排布,多個所述第二噴淋裝置呈行列排布,所述第一噴淋裝置與所述第二噴淋裝置一一對應;所述第一噴淋裝置相對基板均成傾斜設置,相鄰行的所述第一噴淋裝置分別朝兩個相對的方向傾斜。
上述蝕刻系統,動力裝置用于輸送藥液,第一輸送管和第二輸送管均與動力裝置連接,第一輸送管與第二輸送管呈對稱分布,動力裝置將藥液分別輸送給第一輸送管和第二輸送管,多個第一噴淋裝置分別與第一輸送管連接,多個第二噴淋裝置分別與第二輸送管連接,多個第一噴淋裝置呈行列排布,多個第二噴淋裝置呈行列排布,第一噴淋裝置與第二噴淋裝置一一對應,從而藥液分別經過第一輸送管和第二輸送管輸送給第一噴淋裝置和第二噴淋裝置,使得藥液從第一噴淋裝置和第二噴淋裝置噴出,噴淋到基板上,對基板進行蝕刻,此外,第一噴淋裝置相對基板均成傾斜設置,相鄰行的第一噴淋裝置分別朝兩個相對的方向傾斜,由于第一噴淋裝置與基板呈傾斜設置,使得第一噴淋裝置噴淋到基板上時存在側向沖擊力,從而確保基板的中央區域的反應后的藥水快速流走,從而減少水池效應,提高藥水利用率,此外,相鄰行的第一噴淋裝置分別朝兩個相對的方向傾斜,呈對稱設置,確保在減少水池效應同時有效控制蝕刻因子,提高蝕刻效率。
在其中一個實施例中,所述第一噴淋裝置與所述基板之間的傾斜角度為10-30度。
在其中一個實施例中,所述第一噴淋裝置與其對應的所述第二噴淋裝置呈交錯分布。
在其中一個實施例中,所述第二噴淋裝置與所述基板呈垂直設置。
在其中一個實施例中,所述第二噴淋裝置與所述基板呈傾斜設置。
在其中一個實施例中,所述第二噴淋裝置與所述基板之間的傾斜角度為10-30度。
在其中一個實施例中,相鄰行的對應的所述第一噴淋裝置之間的距離為4-8厘米。
在其中一個實施例中,還包括過濾裝置,所述過濾裝置與所述動力裝置連接,所述過濾裝置位于所述動力裝置和所述輸送管組之間,所述過濾裝置用于所述動力裝置輸送的藥液進行過濾。
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