[實用新型]真空鍍膜設備

有效

• 申請號: 201920716025.X
• 申請日: 2019-05-17
• 公開（公告）號: CN210030874U
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 鄭威;李錦干;徐華畢
• 申請（專利權）人: 深圳市華爾利泰電子科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/50
• 代理公司: 44581 深圳正和天下專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 楊波

1.一種真空鍍膜設備，其特征在于，包括真空爐(1)、蒸發熱源(2)、冷卻裝置(3)、以及旋轉支架(4)；

所述真空爐(1)內形成有鍍膜腔室(11)，所述蒸發熱源(2)設置在所述真空爐(1)的內壁面上，以將鍍膜材料加熱蒸發到所述鍍膜腔室(11)內；

所述冷卻裝置(3)包括在所述真空爐(1)的外壁面周向分布的至少兩組冷卻組件(31)，每一冷卻組件(31)包括在所述真空爐(1)的外壁面在豎直方向并排間隔設置的進液通道(311)、出液通道(312)、以及在所述真空爐(1)的外壁面上由上至下間隔分布的若干冷卻支路(313)，所述冷卻支路(313)一端連通所述進液通道(311)，并由所述進液通道(311)沿所述真空爐(1)的外壁向下傾斜連通至所述出液通道(312)；

所述旋轉支架(4)可轉動地安裝在所述真空爐(1)內，所述旋轉支架(4)包括豎直設置的旋轉軸(41)，所述旋轉軸(41)的軸向上分布有水平伸出的若干組安裝臂(42)，供工件安裝后隨所述旋轉支架(4)在所述鍍膜腔室(11)內轉動，每一組所述安裝臂(42)包括在所述旋轉軸(41)的周向分布的至少兩個安裝臂(42)。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述冷卻裝置(3)還包括套設在所述冷卻組件(31)外的隔離套(32)，所述隔離套(32)的內側和所述真空爐(1)的外壁面之間形成有冷卻腔(33)，供冷卻介質流通通過。

3.根據權利要求1所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述進液通道(311)的上端為冷卻液進入所述進液通道(311)的進液口(314)，所述出液通道(312)的下端為冷卻液流出的出液口(315)。

4.根據權利要求3所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述真空爐(1)的外壁面周向均勻分布有四組所述冷卻組件(31)，且各所述冷卻組件(31)相對所述真空爐(1)的軸線中心對稱。

5.根據權利要求1至4任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述安裝臂(42)上設有可繞水平軸線轉動地工件支架(43)，所述工件支架(43)上設有若干供工件安裝的安裝位(431)，且各所述安裝位(431)在所述工件支架(43)上繞所述工件支架(43)的轉動軸線中心對稱分布。

6.根據權利要求5所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述安裝臂(42)上安裝有供所述工件支架(43)安裝的驅動軸、以及帶動所述驅動軸轉動地驅動電機。

7.根據權利要求5所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述真空爐(1)的底部設有與所述旋轉軸(41)的下端轉動配合的承載座(5)，以及帶動所述旋轉支架(4)和承載座(5)升降的升降臺(6)。

8.根據權利要求1至4任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述蒸發熱源(2)包括分布在所述真空爐(1)的內壁面上、且位于上下兩相鄰所述安裝臂(42)之間的若干蒸發點(21)。