[實用新型]一種制坯裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920705492.2
• 申請日: 2019-05-16
• 公開（公告）號: CN210100261U
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張海鷹
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南富強特種陶瓷制造有限公司
• 主分類號: B28B3/04
• 分類號: B28B3/04;B28B17/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 羅滿

本申請公開了一種制坯裝置，包括：機架(1)；設(shè)置在所述機架(1)上的下模機構(gòu)(2)，所述下模機構(gòu)(2)包括可拆卸的下模(21)；設(shè)置在所述機架(1)上的上模機構(gòu)(3)，所述上模機構(gòu)(3)包括與所述下模(21)相配套的上模(31)，且所述上模機構(gòu)(3)能帶動所述上模(31)靠近或遠離所述下模(21)。本申請?zhí)峁┑闹婆餮b置，通過上模機構(gòu)和下模機構(gòu)的配合，實現(xiàn)坩堝坯體的機械化制作，可以有效提高制坯效率，同時可提高坯體壓制質(zhì)量、均勻度、密度和氣孔率，保證每一批坯體的質(zhì)量均一性，尤其適于熔金坩堝的坯體制備。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及坩堝成型技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種制坯裝置。

背景技術(shù)

坩堝是熔化和精煉金屬液體，以及固液加熱、反應(yīng)的容器。坩堝通常在高溫環(huán)境下使用，且易受到所承載物質(zhì)的侵蝕，為了保證內(nèi)容物反應(yīng)的順利進行，需要坩堝的質(zhì)量好，能高溫、抗侵蝕，減少穿孔、脫節(jié)的發(fā)生。

坩堝的制備，需要將原料成型，制成毛坯，然后經(jīng)烘干、燒結(jié)等步驟得到成品。毛坯的質(zhì)量對成品坩堝的質(zhì)量有較大影響。采用手工制作毛坯，質(zhì)量難以控制。

因此，如何提供一種制坯裝置，實現(xiàn)高質(zhì)量制坯，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。

實用新型內(nèi)容

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的目的為提供一種制坯裝置；本申請?zhí)峁┑闹婆餮b置，通過上模機構(gòu)和下模機構(gòu)的配合，實現(xiàn)坩堝坯體的機械化制作，可以有效提高制坯效率，同時可提高坯體壓制質(zhì)量、均勻度、密度和氣孔率，保證每一批坯體的質(zhì)量均一性，尤其適于熔金坩堝的坯體制備。

本實用新型提供的技術(shù)方案如下：

一種制坯裝置，包括：

機架；

設(shè)置在所述機架上的下模機構(gòu)，所述下模機構(gòu)包括可拆卸的下模；

設(shè)置在所述機架上的上模機構(gòu)，所述上模機構(gòu)包括與所述下模相配套的上模，且所述上模機構(gòu)能帶動所述上模靠近或遠離所述下模。

優(yōu)選地，所述下模機構(gòu)包括用于容納所述下模的下模架。

優(yōu)選地，所述下模架的形狀與所述下模相配套。

優(yōu)選地，所述下模架為圓碗狀。

優(yōu)選地，所述下模機構(gòu)還包括支撐件，所述支撐件與所述機架固定連接，所述下模架設(shè)置在所述支撐件上，且所述下模架與所述支撐件之間設(shè)有緩沖材料。

優(yōu)選地，所述下模架可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述支撐件上，所述下模機構(gòu)還包括用于驅(qū)動所述下模架轉(zhuǎn)動的下模驅(qū)動部件；所述上?？尚D(zhuǎn)地設(shè)置在所述上模機構(gòu)上。

優(yōu)選地，所述上模機構(gòu)設(shè)有刮片。

優(yōu)選地，所述上模機構(gòu)還包括上模驅(qū)動部件、支桿，所述上模驅(qū)動部件驅(qū)動所述上模繞所述支桿轉(zhuǎn)動，或驅(qū)動所述上模沿所述支桿移動。

優(yōu)選地，所述上模驅(qū)動部件驅(qū)動所述上模繞所述支桿轉(zhuǎn)動具體為：所述上模機構(gòu)還設(shè)有上模移動架，所述支桿水平設(shè)置在所述機架上，所述上模移動架可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述支桿上，所述上模與所述上模移動架固定連接，所述上模驅(qū)動部件驅(qū)動所述上模移動架繞所述支桿旋轉(zhuǎn)。

優(yōu)選地，所述上模驅(qū)動部件驅(qū)動所述上模沿所述支桿移動具體為：所述支桿豎直設(shè)在所述機架上，所述上?？梢苿拥卦O(shè)置在所述支桿上，所述上模驅(qū)動部件驅(qū)動所述上模沿所述支桿上下移動。