[實用新型]晶片拋光系統有效
| 申請號： | 201920697123.3 | 申請日： | 2019-05-15 |
| 公開（公告）號： | CN210189428U | 公開（公告）日： | 2020-03-27 |
| 發明（設計）人： | 鄭加鎮;盧建平 | 申請（專利權）人： | 徐州鑫晶半導體科技有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/005 | 分類號： | B24B37/005;B24B37/015;B24B37/34;B24B41/00 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 趙天月 |
| 地址： | 221004 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 晶片 拋光 系統 | ||
1.一種晶片拋光系統，其特征在于，包括：
旋轉盤，所述旋轉盤內形成換熱空間，所述換熱空間具有循環水入口和循環水出口，并且所述旋轉盤上表面設有拋光墊；
承載裝置，所述承載裝置可旋轉地設在所述旋轉盤旋轉軸的一側且位于所述旋轉盤的上方，并且所述承載裝置上安裝有晶片，所述晶片朝向所述旋轉盤上表面設置；
溫度檢測裝置，所述溫度檢測裝置設在所述旋轉盤的上方，用于檢測所述旋轉盤上位于所述旋轉軸的另一側區域溫度；
溫度補償裝置，所述溫度補償裝置設在所述旋轉盤的上方，用于向所述旋轉盤上位于所述旋轉軸的一側區域供給熱量；
控制裝置，所述控制裝置與所述溫度檢測裝置、承載裝置和溫度補償裝置相連，并且所述控制裝置基于所述溫度檢測裝置的顯示調節所述承載裝置的壓力和/或所述溫度補償裝置的功率，以保持拋光溫度恒定。
2.根據權利要求1所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述循環水入口設有調節閥，所述調節閥與所述控制裝置相連，基于所述溫度檢測裝置的顯示調節所述調節閥的開度。
3.根據權利要求1所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括：
拋光液供給裝置，所述拋光液供給裝置與所述控制裝置相連，所述拋光液供給裝置向所述拋光墊供給拋光液，并且基于所述溫度檢測裝置的顯示，調節所述拋光液的流速。
4.根據權利要求1所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述溫度檢測裝置設在所述旋轉盤旋轉軸的另一側。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述溫度檢測裝置為紅外感應裝置。
6.根據權利要求1所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述溫度補償裝置設在所述承載裝置和所述溫度檢測裝置之間。
7.根據權利要求1所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述溫度補償裝置為紅外燈。
8.根據權利要求6或7所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括：
擋光板，所述擋光板設在所述溫度檢測裝置和所述溫度補償裝置之間，用于阻擋所述溫度補償裝置發出的光輻射到所述溫度檢測裝置的檢測區域。
9.根據權利要求8所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述擋光板表面設有吸熱涂層，所述吸熱涂層為石墨層。
10.根據權利要求1所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述溫度補償裝置與所述拋光墊的豎直距離為10～240mm。
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