[實用新型]包含亞氧化鈦涂層的電極有效
| 申請號： | 201920680006.6 | 申請日： | 2019-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN210438812U | 公開（公告）日： | 2020-05-01 |
| 發明（設計）人： | 沈健健;陳峰 | 申請（專利權）人： | 德清創智科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C4/134 | 分類號： | C23C4/134;C23C4/11;C23C4/02 |
| 代理公司： | 浙江千克知識產權代理有限公司 33246 | 代理人： | 裴金華 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 包含 氧化 涂層 電極 | ||
【權利要求書】：
1.包含亞氧化鈦涂層的電極，其特征在于，由下述結構構成：
電極基材（1），用于提供涂層（2）的涂覆基礎；
涂層（2），涂敷于所述電極基材（1）上；
其中，所述涂層（2）由噴砂層（2-1）和功能涂層（2-2）構成；
所述噴砂層（2-1）由白剛玉砂構成，涂敷于所述電極基材（1）上；
所述功能涂層（2-2）為亞氧化鈦陶瓷涂層，涂敷于所述噴砂層（2-1）上。
2.根據權利要求1所述的包含亞氧化鈦涂層的電極，其特征在于：所述噴砂層（2-1）由36號白剛玉砂構成。
3.根據權利要求1或2所述的包含亞氧化鈦涂層的電極，其特征在于：所述噴砂層（2-1）的表面粗糙度Ra為6~8μm。
4.根據權利要求1所述的包含亞氧化鈦涂層的電極，其特征在于：所述功能涂層（2-2）由亞氧化鈦粉末融化后相結合形成的涂層結構所構成。
5.根據權利要求1或4所述的包含亞氧化鈦涂層的電極，其特征在于：所述功能涂層（2-2）的厚度為0.05~0.1mm。
6.根據權利要求1所述的包含亞氧化鈦涂層的電極，其特征在于：所述電極基材（1）為金屬單質或合金基材。
7.根據權利要求1或6所述的包含亞氧化鈦涂層的電極，其特征在于：所述電極基材（1）表面無油污。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
