[實用新型]一種鍺單晶爐熱場清理工作臺

有效

• 申請號: 201920657200.2
• 申請日: 2019-05-07
• 公開（公告）號: CN209910416U
• 公開（公告）日: 2020-01-07
• 發明（設計）人: 呂遠芳
• 申請（專利權）人: 保定三晶電子材料有限公司
• 主分類號: F27D17/00
• 分類號: F27D17/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種鍺單晶爐熱場清理工作臺，包括密封工作箱組件、加工臺組件和手動開箱組件，石墨件在電機的帶動下進行轉動加工，加工過程中的粉塵由第一吸塵口和第二吸塵口吸入到中空的密封箱體的箱體板壁內部，第一吸塵口和第二吸塵口的開設高度不一，有效減少粉塵吸收的死角，增大粉塵的吸收速度，將密封蓋蓋在密封箱體上，通過第一吸塵口正吸、第二吸塵口反吹的方式完成剩余粉塵的清理吸入，左右交錯的長鋸齒狀結構卡合在密封箱體的箱體板側壁上，加強密封效果，有效避免粉塵遺漏，手動拉伸軸帶動齒條后退，使得齒輪通過連接桿帶動弧形轉動臂順時針旋轉將密封蓋提起，避免良好密封情況下工作人員無法將密封蓋提起，使用便捷，增加實用性。

技術領域

本實用新型涉及鍺單晶爐熱場清理技術領域，具體為一種鍺單晶爐熱場清理工作臺。

背景技術

鍺單晶爐是一種在惰性氣體環境中，用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生長無錯位鍺單晶的設備，鍺單晶爐熱場是鍺單晶爐中必備部件，主要由柱狀等靜壓石墨加工而成，加熱、保溫、熱屏、防漏(硅)等均是通過熱場來實現的，鍺單晶爐熱場在運行一爐完成后，需要對其進行拆爐清理，清除附著在石墨件上的碳化硅、硅蒸汽等雜質。

當前清理石墨件上附著雜質時，操作人員在石墨清理間內作業，主要采用百潔布和小型研磨機，在打磨雜質時容易造成揚塵，粉塵較多，清理作業環境較差，故采用吸塵裝置對粉塵進行吸除，為了減輕工作人員的清理負擔，采用固定式的吸塵裝置對粉塵進行吸除，死角較多，粉塵的吸收速度慢，后出現的改善方式采用兩組吸塵口正吸和反吹的方式全面清除死角粉塵，但是清理工作臺的密封性不高，導致粉塵溢散，變相增加工作人員的清理負擔，然而密封性好的清理工作臺端蓋難打開，使用不夠便捷，實用性差。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種鍺單晶爐熱場清理工作臺，具備有效減少粉塵吸收的死角，增大粉塵的吸收速度，避免粉塵堆積對石墨件加工造成的影響，密封效果強，有效避免粉塵遺漏，改善工作環境，減輕工作人員的清理負擔，避免良好密封情況下工作人員無法將密封蓋提起，使用便捷的優點，可以解決現有技術中死角較多，粉塵的吸收速度慢，密封性不高的清理工作臺粉塵容易溢散，密封性高的清理工作臺端蓋難打開，使用不夠便捷的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種鍺單晶爐熱場清理工作臺，包括密封工作箱組件、加工臺組件和手動開箱組件，密封工作箱組件的內部安裝加工臺組件，加工臺組件的底部與手動開箱組件固定連接，手動開箱組件位于密封工作箱組件的下方，密封工作箱組件包括密封箱體、弧形轉動環、轉軸、側安裝架、支撐底板和密封蓋，密封箱體的背部外部固定安裝兩組側安裝架，側安裝架的底部固定在支撐底板上，兩組側安裝架之間活動安裝轉軸，轉軸的外壁包覆弧形轉動環，弧形轉動環與密封蓋的側壁固定連接，密封箱體的內部安裝加工臺組件；

加工臺組件包括石墨放置臺、支撐曲柱、第一吸塵口、底座和第二吸塵口，石墨放置臺設置為環形鏤空結構，石墨放置臺的底部通過支撐曲柱與底座固定連接，底座的外壁固定安裝環形的第一吸塵口，底座的底部與密封箱體的底面接觸連接，密封箱體的側壁上環繞設置第二吸塵口，第二吸塵口的高度低于石墨放置臺的頂面高度，底座的底部設有對接口，對接口與手動開箱組件固定連接；

手動開箱組件包括箱體壁、電機安裝臺、電機、手動拉伸軸、偏差件、齒條、齒輪、連接桿、對接樁和弧形轉動臂，箱體壁的頂面與密封箱體的底面固定連接，箱體壁的底面通過電機安裝臺固定連接電機，電機的側面設有手動拉伸軸，手動拉伸軸的一端伸出箱體壁，手動拉伸軸的另一端通過螺栓與偏差件相接，偏差件的端焊接齒條，齒條與齒輪嚙合，齒輪固定安裝在連接桿上，連接桿的兩端在兩組對接樁的內部轉動，連接桿的兩端均固定安裝弧形轉動臂，弧形轉動臂的另一端與弧形轉動環的外表面固定連接。

優選的，所述第一吸塵口的直徑尺寸大于石墨放置臺的直徑尺寸。

優選的，所述密封蓋的兩側邊沿設置為左右交錯的長鋸齒狀結構，密封蓋的形狀尺寸與密封箱體頂部的形狀尺寸一致。