[實用新型]一種帶材連續式真空等離子體鍍膜系統有效
| 申請號: | 201920640946.2 | 申請日: | 2019-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN209923423U | 公開(公告)日: | 2020-01-10 |
| 發明(設計)人: | 何培忠 | 申請(專利權)人: | 廣州市中昊裝飾材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/46 | 分類號: | C23C14/46;C23C14/56 |
| 代理公司: | 44259 廣州凱東知識產權代理有限公司 | 代理人: | 姚迎新 |
| 地址: | 510080 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 放卷室 帶材 真空鍍膜室 收卷 真空等離子體鍍膜 本實用新型 抽真空系統 收放卷裝置 帶材表面 金屬離子 進氣管 室內部 收卷室 陰極靶 縮頭 沉積 等離子體鍍膜 連續式真空 沉積涂層 厚度均勻 加熱裝置 膜層沉積 氣體通過 驅動裝置 真空鍍膜 真空連接 高效率 連續化 側壁 放卷 濺射 連通 室內 生產 | ||
本實用新型公開了一種帶材連續式真空等離子體鍍膜系統,包括真空鍍膜室、抽真空系統、收放卷裝置和驅動裝置;收放卷裝置包括放卷室和收卷室;抽真空系統通過真空連接通道分別與放卷室和收卷室連通;真空鍍膜室上分布有若干陰極靶和進氣管;放卷室和收卷室內部分別設置有放卷漲縮頭和收卷漲縮頭,放卷室和收卷室內部側壁上分別設有加熱裝置,帶材在真空鍍膜室內通過陰極靶向帶材上濺射金屬離子,氣體通過進氣管流入真空鍍膜室后與金屬離子發生作用沉積在帶材表面;本實用新型提供的真空等離子體鍍膜系統使帶材表面膜層沉積效率高、沉積厚度均勻、沉積涂層效果好??梢詫崿F帶材真空等離子體鍍膜生產的連續化,大面積、高效率、大規模生產。
技術領域
本實用新型涉及真空等離子體鍍膜設備技術領域,特別地是一種帶材連續式真空等離子體鍍膜系統。
背景技術
現有的技術對連續帶狀或板狀金屬產品進行鍍膜加工的真空等離子體鍍膜設備,技術落后,能耗高,膜厚不均勻,產量低等缺點,加工該類產品的設備一般包括周期式真空等離子體鍍膜設備和連續式真空等離子體鍍膜設備兩種:
1)周期式真空等離子體鍍膜設備,源于其生產加工產品的方式是以少量單次裝料的方式生產作為一生產周期,產品放置量比較少,尺寸較小,重量較輕,總結所得該種設備普遍存在以下缺點:1、生產效率低,每生產一爐次就要重新升溫和抽真空,生產周期比較長,產出少。2、能耗高,每生產一爐次都要重新升溫和抽真空,消耗大量的電能;同時氣體消耗量較高,每生產一爐次都要打開爐門把多余的工藝氣體放掉,然后再充入新的工藝氣體補充爐腔。3、工裝夾具復雜,要使爐內的產品(如帶狀或平板狀)在旋轉的過程中保持平穩和不碰到腔體內壁,要設計復雜的工裝夾具來固定它。4、生產每一板狀(例如不銹鋼板)或帶狀(例如不銹鋼帶)產品利用率低,由于工裝夾具的關系,如帶狀產品或板狀產品總是要有和工裝連接的地方,而這些地方往往被擋住或有工藝連接孔,以至鍍膜沒有鍍到或者有工藝連接孔的地方就要必須去掉,造成了浪費。5、靶材利用率低,由于工裝夾具較多,所以每次鍍膜會把工裝夾具給鍍上,消耗了不必要的靶材。6、再加工利用率低,產品再加工范圍窄,因為如平板狀產品長度有限,寬度也比較窄,不能加工成形大件的產品,只能用于小件的加工成形。
2)為連續式真空等離子體鍍膜設備,就是在同一密封真空腔內完成放卷、鍍膜和收卷連續加工工序的設備,鍍膜的工藝段和傳動的轉動動力段設計在同一個聯通的真空腔,為了減少真空腔的體積,往往要把中間鍍膜的部分的真空腔體盡量縮小,因而導致氣體流速和均勻性收到很大的影響,導致了加工時的鍍膜速度不高,顏色不均勻,同時一般工藝段為長方形,在抽真空的情況下,受大氣壓得擠壓,容易受力比較大,易變形,制作難度和用料成本比較大,難于大范圍推廣使用,不能擴展其他功能,設備投入成本高,利用率低,產量低?,F有連續式的帶材真空鍍膜多為小型產品,不能大規模應用于工業生產,產品重量小,產量較低,寬度較窄,長度較短,只能小卷鍍膜,無法生產大量的穩定優質的產品,同時存在較多缺陷,容易刮傷帶材表面,特別是容易刮花和損傷鏡面的不銹鋼板表面。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種沉積的涂層厚度均勻,沉積效率高,結合力好,可連續化大規模生產的帶材連續式真空等離子體鍍膜系統。
本實用新型通過以下技術方案實現的:
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