[實(shí)用新型]電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置及電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920619110.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209927765U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-01-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏彥存;范少聰;康樹(shù)森;劉巖;李營(yíng);孟垂舟 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 新奧科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N27/12 | 分類(lèi)號(hào): | G01N27/12;G01N27/416 |
| 代理公司: | 11274 北京中博世達(dá)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 065001 河*** | 國(guó)省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電化學(xué)阻抗譜 測(cè)試裝置 電解質(zhì)膜 夾持件 升降臺(tái) 電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng) 本實(shí)用新型 夾持組件 支架 測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域 夾持電解質(zhì)膜 電解質(zhì) 測(cè)試數(shù)據(jù) 滑動(dòng)安裝 外接極耳 導(dǎo)電體 阻抗譜 布設(shè) 測(cè)試 | ||
1.一種電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,包括:
支架;
夾持組件,所述夾持組件設(shè)置在所述支架上,所述夾持組件包括相對(duì)布設(shè)且用于夾持電解質(zhì)膜的兩個(gè)夾持件,兩個(gè)所述夾持件均為導(dǎo)電體,且兩個(gè)所述夾持件上均安裝有外接極耳;
升降臺(tái),所述升降臺(tái)滑動(dòng)安裝在所述支架上,且所述升降臺(tái)與兩個(gè)所述夾持件中的其中一個(gè)所述夾持件連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,還包括:
驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述升降臺(tái)連接,且所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述升降臺(tái)和與所述升降臺(tái)連接的所述夾持件朝向或遠(yuǎn)離另一個(gè)所述夾持件移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括螺桿和與所述螺桿連接的驅(qū)動(dòng)手柄,所述螺桿的靠近所述升降臺(tái)的端部與所述升降臺(tái)螺紋連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,兩個(gè)所述夾持件的中軸線、所述升降臺(tái)的中軸線,以及所述螺桿的中軸線位于同一條直線上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,所述支架包括呈上下布設(shè)的第一支撐板和第二支撐板,以及設(shè)置在所述第一支撐板和所述第二支撐板之間的連接柱,所述升降臺(tái)滑動(dòng)安裝在所述連接柱上,且所述升降臺(tái)的滑動(dòng)方向與所述連接柱的延伸方向一致,兩個(gè)所述夾持件中的其中一個(gè)所述夾持件設(shè)置在所述第二支撐板上,另一個(gè)所述夾持件設(shè)置在所述升降臺(tái)的靠近所述第二支撐板的一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,所述第一支撐板上開(kāi)設(shè)有通孔,所述螺桿穿過(guò)所述通孔與所述升降臺(tái)螺紋連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,兩個(gè)所述夾持件中設(shè)置在所述第二支撐板上的所述夾持件外部套設(shè)有絕緣套管,且所述絕緣套管的上表面高于位于所述絕緣套管內(nèi)的所述夾持件的上夾持面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,所述絕緣套管的上表面高于位于所述絕緣套管內(nèi)的所述夾持件的上夾持面3mm~5mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置,其特征在于,兩個(gè)所述夾持件均能覆蓋住所述電解質(zhì)膜的夾持面;和/或
所述升降臺(tái)與所述支架相配合的位置處設(shè)置有滑動(dòng)結(jié)構(gòu),所述滑動(dòng)結(jié)構(gòu)包括滑槽和滑塊,所述滑塊和所述滑槽的橫截面均為燕尾形結(jié)構(gòu),所述滑槽和所述滑塊的其中一個(gè)設(shè)置在所述升降臺(tái)上,另一個(gè)設(shè)置在所述支架上。
10.一種電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng),其特征在于,包括:
如權(quán)利要求1~9任一項(xiàng)所述的電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置;
電化學(xué)工作站,所述電化學(xué)工作站與所述電解質(zhì)膜電化學(xué)阻抗譜測(cè)試裝置的外接極耳電連接。
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