[實(shí)用新型]水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920606550.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN210090418U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚二冬;李源;周福建;李雅飛;趙續(xù)榮;楊凱;張東航;鐘岳宸;曹沖 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)石油大學(xué)(北京) |
| 主分類號(hào): | G01N33/00 | 分類號(hào): | G01N33/00;G01L13/00;G01L11/00;G01L21/00;B01D1/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 張印鐸;李輝 |
| 地址: | 102249*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸發(fā) 監(jiān)測(cè) 裝置 | ||
1.一種水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,包括:
中空的反應(yīng)容器,所述反應(yīng)容器的上端設(shè)置有密封端蓋,所述密封端蓋上設(shè)置有與所述反應(yīng)容器連通的貫通孔;
與所述貫通孔連通的用于監(jiān)測(cè)所述反應(yīng)容器內(nèi)壓力參數(shù)的第一檢測(cè)單元;
與所述貫通孔連通的用于改變所述反應(yīng)容器內(nèi)壓力參數(shù)的氣泵,所述氣泵與所述貫通孔之間設(shè)置有第一控制閥,所述第一控制閥能調(diào)節(jié)所述氣泵與所述貫通孔之間的連通、斷開(kāi)狀態(tài);
用于維持所述反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)定溫度的溫度控制裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述裝置還包括:與所述貫通孔連通的第二檢測(cè)單元,所述第二檢測(cè)單元為下述任意一種:用于檢測(cè)所述反應(yīng)容器內(nèi)、外壓力差的壓差傳感器、用于檢測(cè)所述反應(yīng)容器內(nèi)液體在所述設(shè)定溫度下的相對(duì)濕度值的濕度傳感器。
3.如權(quán)利要求2所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述壓差傳感器具有相對(duì)的第一端和第二端,所述壓差傳感器的第一端連通所述貫通孔,所述壓差傳感器能檢測(cè)所述第一端與所述第二端之間的壓力差。
4.如權(quán)利要求2所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述第二檢測(cè)單元與所述貫通孔之間設(shè)置有第二控制閥,所述第二控制閥能調(diào)節(jié)所述第二檢測(cè)單元與所述貫通孔之間的連通、斷開(kāi)狀態(tài)。
5.如權(quán)利要求4所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述第一檢測(cè)單元與所述反應(yīng)容器之間設(shè)置有連通器,所述連通器具有閥體,所述閥體具有相對(duì)的上、下兩端,所述閥體上、下兩端均設(shè)置有開(kāi)口,所述閥體上、下兩端相連通形成第一通道;所述閥體上端開(kāi)口通過(guò)連接頭連通所述第一檢測(cè)單元,所述閥體下端開(kāi)口通過(guò)密封接頭連通所述貫通孔。
6.如權(quán)利要求5所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述閥體在其周向上設(shè)置有第一開(kāi)口,所述第一開(kāi)口與所述氣泵連通,所述第一開(kāi)口與所述第一通道連通形成第二通道,所述第一控制閥設(shè)置在所述第二通道上。
7.如權(quán)利要求6所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述閥體在其周向上設(shè)置有第二開(kāi)口,所述第二開(kāi)口與所述第二檢測(cè)單元連通,所述第二開(kāi)口與所述第一通道連通形成第三通道,所述第二控制閥設(shè)置在所述第三通道上。
8.如權(quán)利要求1所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述氣泵為真空泵,所述第一檢測(cè)單元具體為真空表。
9.如權(quán)利要求1所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述氣泵為增壓泵,所述第一檢測(cè)單元具體為壓力表。
10.如權(quán)利要求1所述的水蒸發(fā)監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,所述溫度控制裝置包括:加熱套和溫度傳感器,所述加熱套套設(shè)在所述反應(yīng)容器外部,所述溫度傳感器設(shè)置在所述加熱套上。
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