[實用新型]一種基于太赫茲波的成像系統有效
| 申請號: | 201920565586.4 | 申請日: | 2019-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN210071660U | 公開(公告)日: | 2020-02-14 |
| 發明(設計)人: | 牛麗婷;劉勁松;許潤生;王可嘉;楊振剛 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | G01N21/59 | 分類號: | G01N21/59;G01N21/3581;G01N21/01 |
| 代理公司: | 42201 華中科技大學專利中心 | 代理人: | 曹葆青;李智 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太赫茲波 成像系統 數據采集模塊 旋轉步進電機 直線步進電機 本實用新型 發射模塊 光電流信號 集成化設計 步進電機 光強信號 探測模塊 透射圖像 移動樣品 占用空間 樣品臺 正弦圖 采集 發射 保存 制作 | ||
1.一種基于太赫茲波的成像系統,其特征在于,包括:
太赫茲波發射模塊、第一直線步進電機、第一旋轉步進電機、樣品臺、第二直線步進電機、第二旋轉步進電機、U型支架、太赫茲波探測模塊以及數據采集模塊;
所述U型支架固定在所述第一旋轉步進電機上,所述第一旋轉步進電機固定在所述第一直線步進電機上,所述太赫茲波發射模塊和所述太赫茲波探測模塊分別固定在所述U型支架的兩側,所述樣品臺固定在所述第二旋轉步進電機上,所述第二旋轉步進電機固定在所述第二直線步進電機上,所述數據采集模塊與所述太赫茲波探測模塊相連;
所述太赫茲波發射模塊用于發射太赫茲波,所述太赫茲波探測模塊用于將收集到的光強信號轉變為光電流信號,所述數據采集模塊用于控制步進電機,采集并保存太赫茲波探測模塊收到的光電流信號。
2.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述太赫茲發射模塊包括太赫茲波發射源、第一光學元件、第二光學元件和第一籠式單元;所述太赫茲波發射源、所述第一光學元件、所述第二光學元件依次放置于所述第一籠式單元。
3.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述太赫茲探測模塊包括太赫茲波探測器、第三光學元件、第四光學元件和第二籠式單元;所述第三光學元件、所述第四光學元件和所述太赫茲波探測器依次放置于所述第二籠式單元。
4.如權利要求2所述的系統,其特征在于,所述第一光學元件為平凸透鏡、雙凸透鏡、衍射元件、電漿子波導、超穎表面、超材料透鏡或者離軸拋物面鏡,所述第二光學元件為平凸透鏡、雙凸透鏡、錐透鏡、柱透鏡、衍射元件、電漿子波導、超穎表面、超材料透鏡或者離軸拋物面鏡。
5.如權利要求3所述的系統,其特征在于,所述第四光學元件為平凸透鏡、雙凸透鏡、衍射元件、電漿子波導、超穎表面、超材料透鏡或者離軸拋物面鏡,所述第三光學元件為平凸透鏡、雙凸透鏡、錐透鏡、柱透鏡、衍射元件、電漿子波導、超穎表面、超材料透鏡或者離軸拋物面鏡。
6.如權利要求2所述的系統,其特征在于,所述第一光學元件的后焦平面、所述第二光學元件的后焦平面和所述樣品臺的中心位于同一個xz平面上;所述U型支架的旋轉中心位于所述第一旋轉步進電機的中心軸上;所述樣品臺的中心位于所述第二旋轉步進電機的中心軸上。
7.如權利要求3所述的系統,其特征在于,所述第三光學元件的前焦平面、所述第四光學元件的前焦平面和所述樣品臺的中心位于同一個xz平面上;所述U型支架的旋轉中心位于所述第一旋轉步進電機的中心軸上;所述樣品臺的中心位于所述第二旋轉步進電機的中心軸上。
8.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述數據采集模塊包括數據采集單元和控制單元,所述數據采集單元用于將接收到的光電流信號轉變為電壓信號并對電壓信號進行放大和降噪處理;所述控制單元用于通過步進電機控制器控制第一直線步進電機、第一旋轉步進電機、第二直線步進電機和第二旋轉步進電機運行,同時從所述數據采集單元采集數據。
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