[實用新型]一種Oncell觸摸顯示模組有效
| 申請號: | 201920558839.5 | 申請日: | 2019-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN210199718U | 公開(公告)日: | 2020-03-27 |
| 發明(設計)人: | 張佳衲;曾一鑫;沈登濤 | 申請(專利權)人: | 信利光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 廖苑濱 |
| 地址: | 516600 廣東省汕*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 oncell 觸摸 顯示 模組 | ||
本實用新型提供的一種Oncell觸摸顯示面板,包括液晶顯示面板和觸控導電層,所述觸控導電層是制作在液晶顯示面板上的;所述液晶顯示面板上設有第一消影鍍膜,所述第一消影鍍膜上制作有觸控導電層,所述觸控導電層上覆蓋有第二消影鍍膜。本實用新型的Oncell結構觸摸顯示模組,通過在液晶顯示面板上設第一消影鍍膜,在第一消影鍍膜上制作觸控導電層,在觸控導電層上覆蓋第二消影鍍膜,可以實現對觸控導電層的圖案的消影;不需要將觸控導電層的圖案間距設置過小,對設備沒有太高的要求,因此制作成本可以得到降低。
技術領域
本實用新型主要涉及智能產品的顯示領域,更具體地涉及一種Oncell觸摸顯示模組。
背景技術
現有的Oncell觸摸顯示模組,是直接在液晶顯示面板上再制作觸控導電層,觸控導電層一般采用磁控濺射鍍膜制作,由于液晶顯示面板有液晶,在制作觸控導電層時磁控濺射鍍膜時無法使用高溫鍍膜,因此觸控導電層的觸控層只能夠低溫鍍膜。低溫鍍膜時,觸控導電層厚度高達100nm以上。觸控導電層的圖案間距過大時,會導致底影明顯而無法滿足使用者要求。為了保證觸控導電層的圖案無底影,觸控導電層的圖案間距需要做到10um以下,這對產線設備要求極高,進一步導致了成本的提高。
實用新型內容
為了解決以上問題,本實用新型提供了一種改進的Oncell結構觸摸顯示模組,不僅可以避免底影明顯,同時還不需要將觸控導電層的圖案間距需要做到10um以下。
本實用新型提供的一種Oncell觸摸顯示面板,包括液晶顯示面板和觸控導電層,所述觸控導電層是制作在液晶顯示面板上的;所述液晶顯示面板上設有第一消影鍍膜,所述第一消影鍍膜上制作有觸控導電層,所述觸控導電層上覆蓋有第二消影鍍膜。
進一步的,所述觸控導電層為ITO圖案層。
進一步的,所述ITO 圖案層通過低溫磁控濺射鍍膜方式在第一消影鍍膜上制成。
進一步的,所述ITO 圖案層的厚度為100nm以上,所述ITO圖案層的圖案間距大于30um。
進一步的,所述第一消影鍍膜包括折射率不同的第一折射率材料層和第二折射率材料層;所述第二消影鍍膜包括折射率不同的第三折射率材料層和第四折射率材料層;所述液晶顯示面板、第四折射率材料層、第三折射率材料層、觸控導電層、第二折射率材料層、第一折射率材料層,從下到上依次層疊。
進一步的,所述第一折射率材料層為氮化硅層、五氧化二鈮層、和氮化硅和五氧化二鈮的混合材料層三者中的其中一種;所述第二折射率材料層為二氧化硅層;所述第三折射率材料層為二氧化硅層;所述第四折射率材料層為氮化硅層、五氧化二鈮層、和氮化硅和五氧化二鈮的混合材料層三者中的其中一種。
進一步的,所述第一折射率材料層、第二折射率材料層、第三折射率材料層、第四折射率材料層的厚度分別在10-40nm之間。
進一步的,所述觸控導電層上還層疊有玻璃蓋板。
進一步的,所述蓋板上設置有AR抗反射增透膜。
相對于現有技術,本實用新型的有益效果如下:
本實用新型的Oncell結構觸摸顯示模組,通過在液晶顯示面板上設第一消影鍍膜,在第一消影鍍膜上制作觸控導電層,在觸控導電層上覆蓋第二消影鍍膜,可以實現對觸控導電層的圖案的消影;不需要將觸控導電層的圖案間距設置過小,對設備沒有太高的要求,因此制作成本可以得到降低。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例所述的一種Oncell結構觸摸顯示面板的結構示意圖;
圖2為本實用新型實施例所述的一種Oncell結構觸摸顯示面板的剖視圖;
圖3為本實用新型實施例所述的一種四層結構消影層的Oncell結構觸摸顯示面板的示意圖。
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