[實(shí)用新型]揚(yáng)聲器箱

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920554244.2
• 申請(qǐng)日: 2019-04-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209964290U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 沈凱華;吳軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 瑞聲科技(新加坡)有限公司
• 主分類號(hào): H04R9/06
• 分類號(hào): H04R9/06
• 代理公司: 44289 深圳市中原力和專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 謝芝柏

本實(shí)用新型提供了一種揚(yáng)聲器箱，其包括具有收容空間的殼體以及收容于收容空間內(nèi)的發(fā)聲單體；發(fā)聲單體包括盆架、分別固定于盆架的振膜和磁路系統(tǒng)以及由殼體內(nèi)部凸出延伸的至少兩個(gè)擋壁，磁路系統(tǒng)和盆架共同圍成的并用于發(fā)聲單體側(cè)面泄漏的泄漏口；發(fā)聲單體將收容空間分隔成前腔和后腔，前腔用于發(fā)聲；盆架、振膜以及磁路系統(tǒng)共同圍成聲腔，泄漏口將聲腔與后腔連通；泄漏口包括第一泄漏口和位于第一泄漏口相對(duì)兩端的兩個(gè)第二泄漏口；每一擋壁抵接于發(fā)聲單體并將對(duì)應(yīng)的第二泄漏口覆蓋遮擋。與相關(guān)技術(shù)相比，本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器箱可靠性高和聲學(xué)性能優(yōu)。

【技術(shù)領(lǐng)域】

本實(shí)用新型涉及聲電領(lǐng)域，尤其涉及一種運(yùn)用于便攜式電子產(chǎn)品的揚(yáng)聲器箱。

【背景技術(shù)】

隨著移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)時(shí)代的到來(lái)，智能移動(dòng)設(shè)備的數(shù)量不斷上升。而在眾多移動(dòng)設(shè)備之中，手機(jī)無(wú)疑是最常見(jiàn)、最便攜的移動(dòng)終端設(shè)備。目前，手機(jī)的功能極其多樣，其中之一便是高品質(zhì)的音樂(lè)功能，因此，用于播放聲音的揚(yáng)聲器箱被大量應(yīng)用到現(xiàn)在的智能移動(dòng)設(shè)備之中。

相關(guān)技術(shù)的所述揚(yáng)聲器箱包括具有收容空間的殼體、收容于所述殼體內(nèi)的發(fā)聲單體以及形成于所述收容空間內(nèi)的導(dǎo)聲通道，所述發(fā)聲單體包括用于振動(dòng)發(fā)聲的振膜，所述振膜將所述收容空間分隔成前聲腔和后腔，所述導(dǎo)聲通道將所述前聲腔與外界連通并與所述前聲腔共同構(gòu)成所述前腔。

然而，相關(guān)技術(shù)的所述揚(yáng)聲器箱中，所述發(fā)聲單體采用大泄漏設(shè)計(jì)，即發(fā)聲單體的泄漏設(shè)計(jì)在盆架側(cè)面，當(dāng)所述揚(yáng)聲器箱直接裝入所述收容空間后，殼體內(nèi)并沒(méi)有與所述大泄漏設(shè)計(jì)配合的結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致所述發(fā)聲單體整體泄漏偏大，導(dǎo)致所述揚(yáng)聲器箱失真，甚至是導(dǎo)致所述揚(yáng)聲器箱振幅過(guò)大而產(chǎn)生雜音。

因此，實(shí)有必要提供一種新的揚(yáng)聲器箱解決上述技術(shù)問(wèn)題。

【實(shí)用新型內(nèi)容】

本實(shí)用新型的目的在于提供一種可靠性高和聲學(xué)性能優(yōu)的揚(yáng)聲器箱。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種揚(yáng)聲器箱，其包括具有收容空間的殼體以及收容于所述收容空間內(nèi)的發(fā)聲單體；所述發(fā)聲單體包括盆架、分別固定于所述盆架的振膜和磁路系統(tǒng)以及由所述殼體內(nèi)部凸出延伸的至少兩個(gè)擋壁，所述磁路系統(tǒng)和所述盆架共同圍成的并用于所述發(fā)聲單體側(cè)面泄漏的泄漏口，所述發(fā)聲單體將所述收容空間分隔成前腔和后腔，所述前腔用于發(fā)聲；所述盆架、所述振膜以及所述磁路系統(tǒng)共同圍成聲腔，所述泄漏口將所述聲腔與所述后腔連通；所述泄漏口包括第一泄漏口和位于所述第一泄漏口相對(duì)兩端的兩個(gè)第二泄漏口；每一所述擋壁抵接于所述發(fā)聲單體并將對(duì)應(yīng)的所述第二泄漏口覆蓋遮擋，通過(guò)所述第一泄漏口泄漏。

優(yōu)選的，所殼體包括上蓋、蓋設(shè)于所述上蓋并共同圍成所述收容空間的下蓋；所述振膜與所述上蓋間隔相對(duì)形成所述前腔，所述振膜與所述下蓋及所述上蓋共同形成所述后腔，所述擋壁由所述下蓋向所述上蓋方向凸出延伸形成。

優(yōu)選的，所述盆架包括盆架本體和由所述盆架本體向遠(yuǎn)離所述振膜方向延伸的固定壁，所述振膜固定于所述盆架本體遠(yuǎn)離所述固定壁的一側(cè)；所述磁路系統(tǒng)包括固定于所述固定壁的磁軛；所述磁軛與所述盆架本體間隔設(shè)置并共同圍成所述泄漏口，位于同一側(cè)的兩個(gè)所述擋壁間隔設(shè)置于所述第一泄漏口的相對(duì)兩側(cè)，每一所述擋壁與對(duì)應(yīng)的所述第二泄漏口正對(duì)設(shè)置。

優(yōu)選的，所述磁軛呈矩形，所述泄漏口包括兩個(gè)，兩個(gè)所述第一泄漏口分別位于所述磁軛的短軸相對(duì)兩側(cè)，所述擋壁包括四個(gè)且分別位于所述磁軛四個(gè)角的位置，四個(gè)所述第二泄漏口分別位于所述磁軛的四個(gè)角的位置。

優(yōu)選的，所述下蓋包括貫穿其上的通口，所述磁軛固定于所述下蓋并完全蓋設(shè)所述通口。

優(yōu)選的，所述磁軛的四個(gè)角的位置作切角處理形成切邊部，所述下蓋還包括由所述通口的內(nèi)側(cè)對(duì)應(yīng)四個(gè)所述切邊部的位置凸出延伸形成四個(gè)延伸塊，四個(gè)所述延伸塊分別抵接于四個(gè)所述切邊部；四個(gè)所述擋壁分別由四個(gè)所述延伸塊彎折延伸形成，每一所述擋壁抵接于對(duì)應(yīng)的所述切邊部。