[實(shí)用新型]揚(yáng)聲器箱有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920554243.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209964289U | 公開(公告)日: | 2020-01-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 沈凱華;吳軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 瑞聲科技(新加坡)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H04R9/06 | 分類號(hào): | H04R9/06;H04R9/02 |
| 代理公司: | 44289 深圳市中原力和專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 謝芝柏 |
| 地址: | 新加坡宏茂橋*** | 國(guó)省代碼: | 新加坡;SG |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)聲單體 泄漏孔 收容空間 擋壁 盆架 本實(shí)用新型 磁路系統(tǒng) 揚(yáng)聲器箱 聲腔 后腔 振膜 連通 凸出 殼體內(nèi)部 聲學(xué)性能 正對(duì)設(shè)置 出聲孔 泄漏量 抵接 殼體 前腔 分隔 收容 泄漏 側(cè)面 延伸 | ||
本實(shí)用新型提供了一種揚(yáng)聲器箱,包括具有收容空間的殼體、收容于所述收容空間內(nèi)的發(fā)聲單體以及由所述殼體內(nèi)部凸出延伸形成的擋壁;所述發(fā)聲單體包括盆架、分別固定于所述盆架的振膜和磁路系統(tǒng)以及由所述發(fā)聲單體側(cè)面泄漏的泄漏孔,所述發(fā)聲單體將所述收容空間分隔成與所述出聲孔連通的前腔和后腔;所述盆架、所述振膜以及所述磁路系統(tǒng)共同圍成聲腔,所述泄漏孔將所述聲腔與所述后腔連通;所述擋壁抵接于所述發(fā)聲單體且與所述泄漏孔正對(duì)設(shè)置,通過調(diào)節(jié)所述擋壁的高度以改變所述泄漏孔的泄漏量。與相關(guān)技術(shù)相比,本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器箱聲學(xué)性能更優(yōu)。
【技術(shù)領(lǐng)域】
本實(shí)用新型涉及聲電領(lǐng)域,尤其涉及一種運(yùn)用于便攜式電子產(chǎn)品的揚(yáng)聲器箱。
【背景技術(shù)】
隨著移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)時(shí)代的到來,智能移動(dòng)設(shè)備的數(shù)量不斷上升。而在眾多移動(dòng)設(shè)備之中,手機(jī)無疑是最常見、最便攜的移動(dòng)終端設(shè)備。目前,手機(jī)的功能極其多樣,其中之一便是高品質(zhì)的音樂功能,因此,用于播放聲音的揚(yáng)聲器箱被大量應(yīng)用到現(xiàn)在的智能移動(dòng)設(shè)備之中。
相關(guān)技術(shù)的所述揚(yáng)聲器箱包括具有收容空間的殼體、收容于所述殼體內(nèi)的發(fā)聲單體以及形成于所述收容空間內(nèi)的導(dǎo)聲通道,所述發(fā)聲單體包括用于振動(dòng)發(fā)聲的振膜,所述振膜將所述收容空間分隔成前聲腔和后腔,所述導(dǎo)聲通道將所述前聲腔與外界連通并與所述前聲腔共同構(gòu)成所述前腔。
然而,相關(guān)技術(shù)的所述揚(yáng)聲器箱中,所述發(fā)聲單體采用大泄漏設(shè)計(jì),即發(fā)聲單體的泄漏設(shè)計(jì)在盆架側(cè)面,當(dāng)所述揚(yáng)聲器箱直接裝入所述收容空間后,殼體內(nèi)并沒有與所述大泄漏設(shè)計(jì)配合的結(jié)構(gòu),導(dǎo)致所述發(fā)聲單體整體泄漏偏大,導(dǎo)致所述揚(yáng)聲器箱失真,甚至是導(dǎo)致所述揚(yáng)聲器箱振幅過大而產(chǎn)生雜音。
因此,實(shí)有必要提供一種新的揚(yáng)聲器箱解決上述技術(shù)問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
本實(shí)用新型的目的在于提供一種可靠性和聲學(xué)性能好的揚(yáng)聲器箱。
為了達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型提供了一種揚(yáng)聲器箱,包括具有收容空間的殼體、收容于所述收容空間內(nèi)的發(fā)聲單體以及由所述殼體內(nèi)部凸出延伸形成的擋壁;所述發(fā)聲單體包括盆架、分別固定于所述盆架的振膜和磁路系統(tǒng)以及由所述發(fā)聲單體側(cè)面泄漏的泄漏孔,所述振膜將所述收容空間分隔成前腔和后腔;所述盆架、所述振膜以及所述磁路系統(tǒng)共同圍成聲腔,所述泄漏孔將所述聲腔與所述后腔連通;所述擋壁位于所述發(fā)聲單體的側(cè)面,所述擋壁與所述泄漏孔正對(duì)設(shè)置且覆蓋部分所述泄漏孔,通過調(diào)節(jié)所述擋壁的高度以改變所述泄漏孔的泄漏量。
優(yōu)選的,所殼體包括上蓋、蓋設(shè)于所述上蓋并共同圍成所述收容空間的下蓋;所述振膜與所述上蓋間隔相對(duì)形成所述前腔,所述振膜與所述下蓋及所述上蓋共同形成所述后腔,所述擋壁由所述下蓋向所述上蓋方向凸出延伸形成。
優(yōu)選的,所述盆架包括盆架本體和由所述盆架本體向遠(yuǎn)離所述振膜方向延伸的固定壁,所述振膜固定于所述盆架本體遠(yuǎn)離所述固定壁的一側(cè),所述磁路系統(tǒng)包括固定于所述固定壁的磁軛,所述磁軛與所述盆架本體間隔設(shè)置并共同圍成所述泄漏孔。
優(yōu)選的,所述盆架呈矩形,所述泄漏孔包括兩個(gè)且分別位于所述盆架短軸相對(duì)兩側(cè)。
優(yōu)選的,所述下蓋包括貫穿其上的通口,所述磁軛收容于所述通口內(nèi)且抵接于所述通口的內(nèi)側(cè)壁,所述擋壁包括兩個(gè)且分別形成于所述通口相對(duì)兩側(cè)的周緣,兩個(gè)所述擋壁分別與兩個(gè)所述泄漏孔正對(duì)設(shè)置。
優(yōu)選的,所述通口呈矩形且四個(gè)角為倒角結(jié)構(gòu),每一所述擋壁包括形成于所述通口其中一側(cè)周緣的擋壁主體以及由所述擋壁主體兩端分別延伸的兩個(gè)擋壁延伸部。
與相關(guān)技術(shù)相比,本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器箱中,所述發(fā)聲單體在其側(cè)面形成大泄漏結(jié)構(gòu)的泄漏孔,所述殼體內(nèi)凸出延伸形成擋壁,使擋壁抵接于所述發(fā)聲單體并與所述泄漏孔正對(duì)設(shè)置,通過調(diào)節(jié)所述擋壁的高度以實(shí)現(xiàn)所述泄漏孔的泄漏量調(diào)節(jié),從而有效的確保所述發(fā)聲單體的正常泄漏量,實(shí)現(xiàn)了大泄漏結(jié)構(gòu)的發(fā)聲單體運(yùn)用在所述揚(yáng)聲器箱中時(shí)失真小,避免了雜音產(chǎn)生,從而提高了所述揚(yáng)聲器箱的可靠性好和聲學(xué)性能。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于瑞聲科技(新加坡)有限公司,未經(jīng)瑞聲科技(新加坡)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201920554243.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:揚(yáng)聲器箱
- 下一篇:揚(yáng)聲器箱





