[實用新型]一種用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置

有效

• 申請號: 201920547234.6
• 申請日: 2019-04-22
• 公開（公告）號: CN209848857U
• 公開（公告）日: 2019-12-27
• 發明（設計）人: 郭大營;朱夢琦;馬圣銘
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: B01J8/10
• 分類號: B01J8/10
• 代理公司: 44245 廣州市華學知識產權代理有限公司
• 代理人: 官國鵬

1.一種用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，包括進氣斗、底蓋和多孔板，所述進氣斗的兩端分別設有進氣口和出氣口，進氣口和出氣口之間形成進氣通道，進氣通道呈兩端大中間小的形狀，底蓋與進氣斗靠近出氣口的一端連接，多孔板位于底蓋內，多孔板與底蓋和出氣口之間形成攪拌腔，多孔板具有多個通孔，多個通孔分別與攪拌腔和外界連通，多孔板上設有粉體材料，粉體材料的粒徑大于通孔的孔徑。

2.根據權利要求1所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，所述進氣通道包括進氣段、增壓段和出氣段，增壓段的兩端連接進氣段和出氣段，進氣段和出氣段的寬度分別大于增壓段的寬度。

3.根據權利要求2所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，所述進氣段的寬度朝增壓段的方向逐漸縮小，所述出氣段的寬度朝遠離增壓段的方向逐漸增大。

4.根據權利要求1所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，所述底蓋設有排氣口，多孔板位于出氣口和排氣口之間，通孔通過排氣口與外界連通。

5.根據權利要求1所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，所述底蓋內壁凸出設置支撐部，支撐部支撐多孔板。

6.根據權利要求1所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，還包括夾具，所述進氣斗靠近出氣口的一端向外延伸形成第一固定部，底蓋靠近出氣口的一端向外延伸形成第二固定部，第一固定部和第二固定部相互抵接，夾具夾持第一固定部和第二固定部。

7.根據權利要求6所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，所述夾具為馬蹄夾。

8.根據權利要求1所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，所述進氣斗靠近出氣口的一端與底蓋靠近出氣口的一端通過螺紋連接。

9.根據權利要求1所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，所述進氣斗和底蓋均可采用玻璃、石英或不銹鋼材料制成。

10.根據權利要求1所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置，其特征在于，所述的用于原子層沉積和等離子體修飾粉體表面的裝置放置于原子層沉積儀器的反應腔內，或放置于等離子體處理儀的反應腔內。