[實用新型]一種熒光納米標準板

有效

• 申請號: 201920542970.2
• 申請日: 2019-04-19
• 公開（公告）號: CN210136172U
• 公開（公告）日: 2020-03-10
• 發明（設計）人: 唐玉國;張志強;史國華;蔣克明;周武平;劉聰;張濤;黎海文
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘇州生物醫學工程技術研究所
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01N21/27
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 謝楠

本實用新型涉及生物醫藥與先進制造技術領域，具體涉及一種熒光納米標準板。所述熒光納米標準板包括納米標尺結構和流動池，所述流動池包括流動腔，所述流動腔設于所述納米標尺結構上，將流動池和納米標尺結構結合，不僅實現納米標尺結構的熒光發光，還通過流動池實現多種熒光物質的快速更換，其納米標尺結構可重復使用，使用時操作簡單，快速，靈活度高，所述熒光納米標準板的制備方法包括制備熒光標尺結構和制備流動池，流動池的制備方法包括分步制備或整體制備，制備方法簡單，精度高，形成的熒光納米標準板密封性好，使用快捷迅速，本實用新型所述熒光納米標準板在熒光分析領域具有很好地應用前景。

技術領域

本實用新型涉及超高分辨率熒光顯微成像技術領域，具體涉及一種熒光納米標準板。

背景技術

熒光顯微成像技術在生命科學領域的研究中具有重要作用，能在亞細胞水平研究細胞內的生命過程與機理，然而，由于傳統光學中阿貝衍射極限的限制，其成像分辨率無法突破200nm以下。隨著超高分辨熒光顯微技術的興起，如光敏定位顯微技術(PALM)、熒光光敏定位顯微技術(FPALM)、隨機光學重建顯微技術(STORM)等、受激發射損耗顯微技術(STED)、結構光照明顯微技術(SIM)和單分子定位顯微成像技術等，這些技術使熒光顯微鏡可以觀察到20nm至100nm的極微細結構。

隨著超高分辨熒光顯微技術的不斷進步和商業化推廣，越來越多的大學、研究所和公司開始自主研發或直接購買超高分辨熒光顯微儀器用于生命科學研究。在儀器日常使用和維護過程中，經常需要對熒光顯微鏡的分辨率進行標定測量，因此需要使用具有確定尺寸的熒光標準結構。對此，中國專利文獻CN103712965A首先提出了一種基于納米溝槽填充熒光量子點的等間距式熒光納米標準板；中國專利文獻CN103954600A提出了一種基于金屬納米溝槽(Al、Au、Ag、Au)內填充熒光染料的寬線條窄間隔式熒光納米標尺結構。上述專利文獻都還存在一個共性問題，即熒光物質是以旋涂、填充或表面修飾的形式形成熒光納米線條，熒光物質是固定的，雖然可以二次使用，但是需要重新去除原有熒光物質，然后再次旋涂、填充或者表面修飾，其操作復雜、費時、靈活度低，不適合于多種熒光物質的快速更換。

實用新型內容

因此，本實用新型要解決的技術問題在于克服現有技術中的熒光納米標尺上的熒光物質固定，二次使用操作復雜、靈活度低的缺陷，從而公開一種熒光納米標準板。

為此，本實用新型公開了一種熒光納米標準板，包括納米標尺結構和流動池，所述流動池包括流動腔，所述流動腔設于所述納米標尺結構具有納米線條結構的一面，所述流動腔與所述納米線條結構相接。

優選的，所述納米線條結構為納米溝槽。

優選的，所述納米標尺結構包括納米溝槽掩模結構和承載納米溝槽掩模結構的基底。

優選的，所述納米溝槽掩模結構包括納米溝槽，所述納米溝槽的線條形式為單線條、等間距線條或寬線條窄間隔，所述納米溝槽的橫截面寬度為10-200nm。

優選的，所述流動池還包括流動池間隔層，設于流動腔的四周，形成流動腔的側壁。優選的，所述流動池間隔層的高度為0.05-5mm。

優選的，所述流動池間隔層的材料為SU-8、PDMS或橡膠墊片。

優選的，所述納米標尺結構和所述流動池間隔層為一體結構單獨使用。

優選的，所述流動池還包括流動池上蓋，所述流動池上蓋的材料為高透光材料，采用PDMS、PMMA、PC、PS或石英玻璃基片。

優選的，所述流動池上蓋還包括進液口、出液口、進液管路、出液管路、連接進液口和進液管路或連接出液口和出液管路的管路接頭。

優選的，所述流動池上蓋和所述流動池間隔層呈一體結構組合件。