[實(shí)用新型]一種真空滅弧室

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920537310.5
• 申請(qǐng)日: 2019-04-18
• 公開（公告）號(hào): CN209561281U
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張?zhí)炫?/a>
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華光電子股份有限公司
• 主分類號(hào): H01H33/664
• 分類號(hào): H01H33/664
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種真空滅弧室，包括本體(1)和靜導(dǎo)電桿(2)，所述靜導(dǎo)電桿(2)上設(shè)有靜端面(3)，其特征在于：所述本體(1)包括安裝塊(4)，所述安裝塊(4)上設(shè)有安裝槽(5)，所述安裝槽(5)內(nèi)螺紋連接有用于保護(hù)靜端面(3)的護(hù)罩(6)，所述護(hù)罩(6)遠(yuǎn)離所述安裝塊(4)的端面位于所述靜端面(3)遠(yuǎn)離所述安裝塊(4)的一側(cè)，所述護(hù)罩(6)上可拆卸連接有蓋板(17)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述護(hù)罩(6)包括固定罩(7)和活動(dòng)罩(8)，所述固定罩(7)上設(shè)有活動(dòng)槽(10)以及與所述安裝槽(5)配合的外螺紋，所述活動(dòng)槽(10)的底面設(shè)有至少一根復(fù)位彈簧(11)，所述復(fù)位彈簧(11)的另一端與所述活動(dòng)罩(8)連接，所述活動(dòng)罩(8)上設(shè)有限制其移動(dòng)的定位件。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述活動(dòng)槽(10)的一側(cè)設(shè)有延伸槽(12)，所述延伸槽(12)的上下內(nèi)壁均設(shè)有定位槽(13)，所述定位件為與所述定位槽(13)配合的定位塊(15)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述活動(dòng)罩(8)的內(nèi)壁上設(shè)有限位圈(16)，所述蓋板(17)蓋合在所述限位圈(16)上，所述蓋板(17)上設(shè)有限制其與限位圈(16)發(fā)生相對(duì)移動(dòng)的固定件。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述固定件包括固定桿(19)和由彈性材料制成的固定球(20)，所述固定桿(19)設(shè)置在所述蓋板(17)上，所述固定球(20)位于所述固定桿(19)的中部；所述限位圈(16)上設(shè)有供所述固定桿(19)穿過的固定孔(18)，所述固定孔(18)的內(nèi)徑小于所述固定球(20)的半徑。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述固定球(20)內(nèi)設(shè)有變形孔(21)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述固定桿(19)遠(yuǎn)離所述蓋板(17)的一端設(shè)有導(dǎo)向塊(14)，所述導(dǎo)向塊(14)的橫截面積向遠(yuǎn)離蓋板(17)的一側(cè)逐漸減小。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述固定罩(7)的外壁上設(shè)有防滑塊(9)。