[實(shí)用新型]一種真空滅弧室

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920532678.2
• 申請(qǐng)日: 2019-04-18
• 公開（公告）號(hào): CN209561279U
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張?zhí)炫?/a>
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華光電子股份有限公司
• 主分類號(hào): H01H33/664
• 分類號(hào): H01H33/664
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種真空滅弧室，包括陶瓷外殼(1)、蓋板(2)，其特征在于：所述陶瓷外殼(1)朝向蓋板(2)的端面外側(cè)固定連接有預(yù)制金屬環(huán)(3)、內(nèi)側(cè)設(shè)置有密封槽(11)，所述密封槽(11)處設(shè)置有密封圈(4)，所述蓋板(2)朝向陶瓷外殼(1)的一側(cè)設(shè)置有位于預(yù)制金屬環(huán)(3)內(nèi)側(cè)的連接環(huán)(21)，所述連接環(huán)(21)端面中部連接有卡環(huán)(22)、內(nèi)側(cè)連接有端環(huán)(23)，所述密封圈(4)設(shè)置有供卡環(huán)(22)卡入的卡槽(41)，所述端環(huán)(23)與密封圈(4)內(nèi)側(cè)緊貼。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述密封槽(11)槽底繞其軸心線間隔固定連接有多個(gè)固定塊(12)，所述密封圈(4)設(shè)置有與固定塊(12)過盈配合的固定槽(42)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述密封圈(4)由硅橡膠制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述陶瓷外殼(1)設(shè)置有兩個(gè)，兩個(gè)所述陶瓷外殼(1)相向一側(cè)之間設(shè)置有中鎖環(huán)(5)，所述中鎖環(huán)(5)和陶瓷外殼(1)之間設(shè)置有預(yù)制金屬環(huán)(3)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述預(yù)制金屬環(huán)(3)和陶瓷外殼(1)之間采用活性金屬法封接，所述預(yù)制金屬環(huán)(3)與中鎖環(huán)(5)、蓋板(2)之間采用釬焊封接。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述中鎖環(huán)(5)內(nèi)側(cè)連接有屏蔽罩(6)，所述屏蔽罩(6)外側(cè)凸起形成抵接于中鎖環(huán)(5)一側(cè)的凸環(huán)(61)，所述中鎖環(huán)(5)背離凸環(huán)(61)的一側(cè)設(shè)置有限位環(huán)(7)，所述限位環(huán)(7)與屏蔽罩(6)可拆卸連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述屏蔽罩(6)于限位環(huán)(7)背離中鎖環(huán)(5)的一側(cè)連接有多個(gè)限位塊(62)，所述限位環(huán)(7)內(nèi)側(cè)設(shè)置有供限位塊(62)穿過的限位孔(71)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種真空滅弧室，其特征在于：所述限位環(huán)(7)背離中鎖環(huán)(5)的一側(cè)連接有多個(gè)定位凸起(72)，所述限位塊(62)設(shè)置有供定位凸起(72)卡入的定位凹槽(621)。