[實(shí)用新型]一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及垂直擴(kuò)散爐有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920519980.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209947815U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-01-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 雷國(guó)鴻;陳伯廷;吳宗祐;林宗賢 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 德淮半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/687 | 分類號(hào): | H01L21/687;H01L21/67 |
| 代理公司: | 31295 上海思捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 王宏婧 |
| 地址: | 223300 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 支撐機(jī)構(gòu) 隔離罩 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu) 底座 本實(shí)用新型 垂直擴(kuò)散爐 相斥 避免污染 反應(yīng)腔室 驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn) 同步旋轉(zhuǎn) 旋轉(zhuǎn)動(dòng)力 磁體被 懸浮磁 外部 傳動(dòng) 磁組 相吸 罩設(shè) 懸浮 傳遞 | ||
1.一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:
底座;
驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),設(shè)置于所述底座上;
隔離罩,設(shè)置于所述底座上并罩設(shè)所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),以使所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與外界隔離;
支撐機(jī)構(gòu),設(shè)置于所述隔離罩的外部;
傳動(dòng)磁組,包括第一磁體和第二磁體,所述第一磁體設(shè)置在所述隔離罩內(nèi),所述第二磁體設(shè)置在所述支撐機(jī)構(gòu)上;以及,
懸浮磁組,包括第三磁體和第四磁體,所述第三磁體設(shè)置于所述隔離罩上,所述第四磁體設(shè)置于所述支撐機(jī)構(gòu)上;
其中:當(dāng)所述第一磁體被所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)水平旋轉(zhuǎn)時(shí),所述第二磁體與所述第一磁體相吸設(shè)置而使所述支撐機(jī)構(gòu)隨所述第一磁體同步水平旋轉(zhuǎn),所述第三磁體和第四磁體相斥設(shè)置而使所述支撐機(jī)構(gòu)及所述第二磁體懸浮在所述隔離罩的外部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)還包括補(bǔ)償磁組,所述補(bǔ)償磁組包括相斥設(shè)置的第五磁體和第六磁體,所述第五磁體設(shè)置在所述支撐機(jī)構(gòu)上,所述第六磁體設(shè)置于所述底座上;
其中,所述第五磁體和第六磁體之間的作用力能夠調(diào)節(jié),以使所述第二磁體與所述底座間的距離始終保持在一預(yù)設(shè)值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第五磁體和第六磁體中的至少一個(gè)為電磁鐵。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)還包括一控制單元,用于調(diào)節(jié)所述第五磁體與第六磁體之間的作用力。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)還包括一距離監(jiān)測(cè)裝置,用于監(jiān)測(cè)所述第二磁體與所述底座間的距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)還包括一控制單元,與所述距離監(jiān)測(cè)裝置連接;所述控制單元用于根據(jù)所述第二磁體與所述底座間的距離,調(diào)節(jié)所述第五磁體與第六磁體之間的作用力。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有一豎向布置的輸出軸,所述輸出軸位于所述隔離罩內(nèi);
其中,所述第一磁體用于繞所述輸出軸水平旋轉(zhuǎn),并且所述第一磁體和/或第二磁體圍繞所述輸出軸呈環(huán)形布置并與所述輸出軸同軸設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第一磁體和所述第二磁體的磁極相互正對(duì)地設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述懸浮磁組包括第一懸浮磁組和第二懸浮磁組,至少一個(gè)所述第一懸浮磁組和至少一個(gè)所述第二懸浮磁組上下分開(kāi)設(shè)置;
其中,至少一個(gè)所述第一懸浮磁組用于在第一方向上形成第一作用力,同時(shí)至少一個(gè)所述第二懸浮磁組用于在第二方向上形成第二作用力,并且所述第一方向與所述第二方向在非水平面上相交,以使所有懸浮磁組分別在水平方向和豎直方向上產(chǎn)生的作用力相平衡。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述隔離罩包括相互連接的下隔離罩和上隔離罩,所述上隔離罩設(shè)置在所述下隔離罩的上方,所述下隔離罩罩設(shè)所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu);
所述支撐機(jī)構(gòu)包括相互連接的下支撐體和上支撐體,所述上支撐體設(shè)置在所述下支撐體的上方,所述下支撐體與所述下隔離罩相對(duì)設(shè)置,所述上支撐體與所述上隔離罩相對(duì)設(shè)置;
所述第二磁體設(shè)置在所述下支撐體上,所述下支撐體與所述下隔離罩間設(shè)有至少一個(gè)第一懸浮磁組,且所述第一懸浮磁組位于所述第二磁體的上方,所述上支撐體與所述上隔離罩間設(shè)有至少一個(gè)第二懸浮磁組;
其中,所述下隔離罩和所述上隔離罩形成兩個(gè)相互對(duì)稱的“V”型結(jié)構(gòu),和/或所述下支撐體和所述上支撐體形成兩個(gè)相互對(duì)稱的“V”型結(jié)構(gòu)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第一磁體、第二磁體、第三磁體和第四磁體中的至少一個(gè)為釤鈷永磁體。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





