[實用新型]具有多區域引射器塊的化學氣相沉積設備有效
| 申請號: | 201920505560.0 | 申請日: | 2019-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN210030883U | 公開(公告)日: | 2020-02-07 |
| 發明(設計)人: | B·米特洛夫克;I·昆奇;J·伽瑪拉;曼德爾·德什潘德 | 申請(專利權)人: | 維高儀器股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C23C16/458 |
| 代理公司: | 11313 北京市鑄成律師事務所 | 代理人: | 包莉莉;武晨燕 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應氣體 分配出口 反應氣體入口 反應氣體輸送 第二區域 第一區域 分配通道 反應器 引射器 化學氣相沉積反應器 反應氣體供應 | ||
1.一種用于將一種或多種反應氣體供應到化學氣相沉積反應器中的引射器塊,包括:
多個第一反應氣體分配通道,其介于一個或多個第一反應氣體入口和多個第一反應氣體分配出口之間,以將第一反應氣體輸送到所述反應器中;以及
多個第二反應氣體分配通道,其介于一個或多個第二反應氣體入口和多個第二反應氣體分配出口之間,以將第二反應氣體輸送到所述反應器中,其中所述多個第二反應氣體分配出口被至少劃分為第二反應氣體第一區域和第二反應氣體第二區域,所述第二反應氣體第二區域至少部分地圍繞所述第二反應氣體第一區域。
2.根據權利要求1所述的引射器塊,其中,用于所述第二反應氣體第二區域的所述第二反應氣體入口配置為,以與供應到所述第二反應氣體第一區域的第二反應氣體的濃度不同的濃度供應所述第二反應氣體。
3.根據權利要求1所述的引射器塊,其中,用于所述第二反應氣體第二區域的所述第二反應氣體入口配置為,以與供應到所述第二反應氣體第一區域的第二反應氣體的濃度大體相等的濃度供應所述第二反應氣體。
4.根據權利要求1所述的引射器塊,其中,所述第二反應氣體第二區域圍繞所述第二反應氣體第一區域。
5.根據權利要求1所述的引射器塊,其中,所述第二反應氣體第一區域的所述第二反應氣體分配出口與所述第一反應氣體分配出口交替散布。
6.根據權利要求1所述的引射器塊,其中,所述第一反應氣體分配出口等間距分隔開,使得所述第一反應氣體分配出口的對稱軸關于在水平方向上延伸的中間平面非對稱。
7.根據權利要求1所述的引射器塊,其中,所述多個第一反應氣體分配出口被劃分為第一反應氣體第一區域和第一反應氣體第二區域。
8.根據權利要求7所述的引射器塊,其中,所述第一反應氣體第一區域具有比所述第一反應氣體第二區域更多數量的第一反應氣體分配出口。
9.根據權利要求7所述的引射器塊,其中,所述第一反應氣體第一區域的流速與所述第一反應氣體第二區域的流速大體相等。
10.根據權利要求7所述的引射器塊,其中,所述第一反應氣體第一區域的流速與所述第一反應氣體第二區域的流速不同。
11.根據權利要求7所述的引射器塊,其中,所述第一反應氣體第一區域和所述第一反應氣體第二區域包括分開的第一反應氣體入口。
12.根據權利要求11所述的引射器塊,其中,用于所述第一反應氣體第二區域的所述第一反應氣體入口配置為,以與供應到所述第一反應氣體第一區域的第一反應氣體的濃度不同的濃度供應所述第一反應氣體。
13.根據權利要求11所述的引射器塊,其中,用于所述第一反應氣體第二區域的所述第一反應氣體入口配置為,以與供應到所述第一反應氣體第一區域的第一反應氣體的濃度大體相等的濃度供應所述第一反應氣體。
14.一種用于處理一個或多個襯底的化學氣相沉積反應器,包括:
晶圓載器,其支撐可移除地安裝在所述反應器內的所述一個或多個襯底,用于圍繞沿向上和向下方向延伸的軸轉動,所述晶圓載器具有頂表面;以及
引射器塊,其配置為將一種或多種反應氣體供應到所述頂表面,所述引射器塊包括:
多個第一反應氣體分配通道,其介于一個或多個第一反應氣體入口和多個第一反應氣體分配出口之間,以將第一反應氣體輸送到所述反應器中;以及
多個第二反應氣體分配通道,其介于一個或多個第二反應氣體入口和多個第二反應氣體分配出口之間,以將第二反應氣體輸送到所述反應器中,其中所述多個第二反應氣體分配出口被至少劃分為第二反應氣體第一區域和第二反應氣體第二區域,所述第二反應氣體第二區域至少部分地圍繞所述第二反應氣體第一區域。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





