[實用新型]晶圓鍍鎢膜加熱器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920499897.5 | 申請日: | 2019-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN209854245U | 公開(公告)日: | 2019-12-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳登葵 | 申請(專利權)人: | 微芯科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/46 | 分類號: | C23C16/46;C23C16/06 |
| 代理公司: | 11314 北京戈程知識產權代理有限公司 | 代理人: | 程偉;王錦陽 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;TW |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 內環(huán)槽 外環(huán)槽 加熱盤 抽氣孔 晶圓 環(huán)繞 加熱器 本實用新型 弧形延伸 加熱平面 加熱裝置 兩端連通 排氣區(qū)域 真空裝置 槽兩側 外加熱 中心處 延伸 槽因 頂面 排出 鎢膜 吸附 種晶 移動 覆蓋 | ||
1.一種晶圓鍍鎢膜加熱器,其特征在于,包含:
一加熱盤,其具有:
一加熱平面,其位于該加熱盤的頂面;
一抽氣孔,其貫穿該加熱盤的該加熱平面及底面;
一內環(huán)槽,其凹設于該加熱平面上,且環(huán)繞該加熱平面的中心及該抽氣孔;
一外環(huán)槽,其凹設于該加熱平面上,且環(huán)繞該加熱平面的中心及該內環(huán)槽;
多個內徑向槽,其凹設于該加熱平面上,且環(huán)繞該加熱平面的中心間隔設置;所述內徑向槽的一端連通該抽氣孔,另一端連通該內環(huán)槽;
多個外徑向槽,其凹設于該加熱平面上,且環(huán)繞該加熱平面的中心間隔設置;所述外徑向槽的一端連通該內環(huán)槽,另一端連通該外環(huán)槽,且所述外徑向槽弧形地延伸;
多個彈片凹槽,所述彈片凹槽環(huán)繞該加熱平面間隔設置;
一真空裝置,該真空裝置連通該加熱盤的該抽氣孔;
一加熱裝置,其連接該加熱盤。
2.如權利要求1所述的晶圓鍍鎢膜加熱器,其特征在于,所述外徑向槽的數量大于所述內徑向槽的數量。
3.如權利要求2所述的晶圓鍍鎢膜加熱器,其特征在于,所述外徑向槽的數量為所述內徑向槽的數量的兩倍。
4.如權利要求1至3中任一項所述的晶圓鍍鎢膜加熱器,其特征在于,所述彈片凹槽位于該內環(huán)槽的外側,且各該彈片凹槽連通其中至少兩該外徑向槽。
5.如權利要求1至3中任一項所述的晶圓鍍鎢膜加熱器,其特征在于,該外環(huán)槽相鄰該加熱平面的周緣。
6.如權利要求1至3中任一項所述的晶圓鍍鎢膜加熱器,其特征在于,該加熱盤進一步具有:
一吹氣環(huán)槽,其凹設于該加熱盤的頂面,且位于該加熱平面的外側;
多個吹氣通道,其凹設于該加熱盤的底面,且環(huán)繞該加熱盤的中心間隔設置,各該吹氣通道與該吹氣環(huán)槽相連通。
7.如權利要求1至3中任一項所述的晶圓鍍鎢膜加熱器,其特征在于,該加熱盤進一步具有一中環(huán)槽,該中環(huán)槽凹設于該加熱平面上,且環(huán)繞該加熱平面的中心及該內環(huán)槽;該外環(huán)槽環(huán)繞該中環(huán)槽。
8.如權利要求1至3中任一項所述的晶圓鍍鎢膜加熱器,其特征在于,該晶圓鍍鎢膜加熱器進一步包含多個彈片,所述彈片分別設于該加熱盤的該多個彈片凹槽中,各該彈片的一側面突出有一凸點,各該彈片的該凸點選擇性地向上突出該加熱平面。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





