[實用新型]晶圓冷卻裝置及采用該晶圓冷卻裝置的光刻機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920494512.6 | 申請日： | 2019-04-12 |
| 公開（公告）號： | CN209543040U | 公開（公告）日： | 2019-10-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉普然;黃志凱;葉日銓 | 申請（專利權(quán)）人： | 德淮半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明偉 |
| 地址： | 223300 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 吹掃氣體 吹掃 晶圓冷卻裝置 光刻機(jī) 晶圓表面 開合門 晶圓 盤面 本實用新型 活動連接 空氣流動 冷卻水管 冷卻裝置 前后位置 箱體底面 箱體頂部 箱體內(nèi)腔 板連接 出氣孔 進(jìn)氣管 排氣孔 產(chǎn)能 種晶 冷卻 傳送 貫通 側(cè)面 | ||
1.一種晶圓冷卻裝置，其特征在于，所述晶圓冷卻裝置至少包括：
箱體，所述箱體的前后位置分別設(shè)有前開合門和后開合門，與所述箱體活動連接；
排氣孔，設(shè)置于所述箱體底面或側(cè)面；
吹掃氣體系統(tǒng)，設(shè)置于所述箱體頂部，所述吹掃氣體系統(tǒng)至少包括吹掃板和與所述吹掃板連接的、為所述吹掃板提供吹掃氣體的進(jìn)氣管，所述吹掃板上開設(shè)有若干個與箱體內(nèi)腔貫通的出氣孔；
冷盤系統(tǒng)，設(shè)置于所述箱體底部，所述冷盤系統(tǒng)至少包括盤面和位于盤面下的冷卻水管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓冷卻裝置，其特征在于，所述出氣孔的中心軸線與吹掃板的板面呈10°至70°夾角。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓冷卻裝置，其特征在于，所述吹掃氣體包括氮氣、氬氣或氮氣與氬氣的混合氣。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓冷卻裝置，其特征在于，若干與所述箱體內(nèi)腔貫通的出氣孔均勻分布于所述吹掃板的板面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓冷卻裝置，其特征在于，若干所述出氣孔的尺寸相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓冷卻裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管上設(shè)置有調(diào)節(jié)閥。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓冷卻裝置，其特征在于，所述晶圓冷卻裝置還包括控制前開合門自動開合的前控制單元或控制后開合門自動開合的后控制單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓冷卻裝置，其特征在于，所述前開合門和所述后開合門的開合方向包括左右開合和上下開合。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓冷卻裝置，其特征在于，所述冷盤系統(tǒng)的盤面設(shè)有真空氣孔和支撐腳。
10.一種光刻機(jī)，其特征在于，所述光刻機(jī)上設(shè)有權(quán)利要求1～9中任一項所述的晶圓冷卻裝置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于德淮半導(dǎo)體有限公司，未經(jīng)德淮半導(dǎo)體有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201920494512.6/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種涂膠顯影機(jī)晶圓定位裝置
- 下一篇：一種UVLED投射燈源
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
