[實(shí)用新型]烘烤裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920476498.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209832944U | 公開(公告)日: | 2019-12-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳亞文;史文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東聚華印刷顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B41F23/04 | 分類號(hào): | B41F23/04;B41F23/00 |
| 代理公司: | 44224 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 侯武嬌;潘艷麗 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 烘烤腔 溶劑消除 氣體驅(qū)動(dòng)部件 加熱板 烘烤基板 烘烤裝置 烘烤 溶劑 基板 蒸發(fā) 本實(shí)用新型 驅(qū)動(dòng) 部件接觸 氮?dú)夥諊?/a> 氣體運(yùn)動(dòng) 溶劑氛圍 溶劑污染 一次烘烤 功能層 內(nèi)循環(huán) 有效地 承載 吸收 | ||
本實(shí)用新型涉及一種烘烤裝置,包括箱體、加熱板、溶劑消除部件和氣體驅(qū)動(dòng)部件,箱體具有烘烤腔,加熱板、溶劑消除部件和氣體驅(qū)動(dòng)部件設(shè)于烘烤腔內(nèi),加熱板用于承載和烘烤基板,溶劑消除部件用于消除基板經(jīng)烘烤所蒸發(fā)的溶劑,氣體驅(qū)動(dòng)部件用于驅(qū)動(dòng)烘烤腔內(nèi)的氣體在烘烤腔內(nèi)循環(huán)運(yùn)動(dòng)。該烘烤裝置在箱體的烘烤腔內(nèi)設(shè)置有溶劑消除部件和氣體驅(qū)動(dòng)部件,在一次烘烤工藝完成后,可及時(shí)地通過氣體驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)烘烤腔內(nèi)的氣體運(yùn)動(dòng),從而使氣體不斷地與溶劑消除部件接觸,于是烘烤基板時(shí)被加熱板所蒸發(fā)的溶劑可有效地被溶劑消除部件吸收除去,如此可維持烘烤腔內(nèi)純凈的氮?dú)夥諊苊夥磸?fù)烘烤造成的溶劑氛圍累積以及基板不同功能層之間的溶劑污染。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種烘烤裝置。
背景技術(shù)
采用溶液加工方法制作OLED、QLED等顯示器,由于其具有低成本、高產(chǎn)能、易于實(shí)現(xiàn)大尺寸等優(yōu)點(diǎn),是未來顯示技術(shù)發(fā)展的重要方向。其中,印刷技術(shù)被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)OLED、QLED等顯示器低成本和大面積全彩顯示的最有效途徑。在印刷工藝中,有一道必不可少的工藝,即烘烤(bake)工藝,用于去除基板上墨水干燥后殘留的溶劑以及使功能薄膜更加致密,從而提高印刷工藝制備的器件性能以及穩(wěn)定性。通常用于烘烤工藝的裝置為HPB裝置(hot plate bake),即采用加熱板(hot plate)對(duì)基板進(jìn)行烘烤。而該裝置在反復(fù)進(jìn)行HPB工藝后,其腔室內(nèi)會(huì)積累大量的溶劑蒸汽,從而影響后續(xù)的烘烤效果,同時(shí)容易造成不同功能層之間的溶劑污染,從而影響器件性能。一般的解決方案是通過對(duì)腔室進(jìn)行循環(huán)抽真空、充氮?dú)庖灾脫Q腔室內(nèi)氣體,這種方法一方面極大消耗氮?dú)庠黾映杀荆硪环矫婧臅r(shí)也增加。
實(shí)用新型內(nèi)容
基于此,有必要提供一種可避免烘烤工藝中不同功能層之間的溶劑污染的烘烤裝置。
一種烘烤裝置,包括箱體、加熱板、溶劑消除部件和氣體驅(qū)動(dòng)部件,所述箱體具有烘烤腔,所述加熱板、所述溶劑消除部件和所述氣體驅(qū)動(dòng)部件設(shè)于所述烘烤腔內(nèi),所述加熱板用于承載和烘烤基板,所述溶劑消除部件用于消除所述基板經(jīng)烘烤所蒸發(fā)的溶劑,所述氣體驅(qū)動(dòng)部件用于驅(qū)動(dòng)所述烘烤腔內(nèi)的氣體在所述烘烤腔內(nèi)循環(huán)運(yùn)動(dòng)。
本實(shí)用新型的烘烤裝置在箱體的烘烤腔內(nèi)設(shè)置有溶劑消除部件和氣體驅(qū)動(dòng)部件,在一次烘烤工藝完成后,可及時(shí)地通過氣體驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)烘烤腔內(nèi)的氣體運(yùn)動(dòng),從而使氣體不斷地與溶劑消除部件接觸,于是烘烤基板時(shí)被加熱板所蒸發(fā)的溶劑可有效地被溶劑消除部件除去,如此可維持烘烤腔內(nèi)純凈的氮?dú)夥諊苊夥磸?fù)烘烤造成的溶劑氛圍累積以及基板不同功能層之間的溶劑污染。同時(shí),通過將揮發(fā)出的溶劑去除,減小了烘烤腔內(nèi)的溶劑蒸汽濃度,有利于提升烘烤工藝中功能薄膜的溶劑去除效果。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,還包括隔板,所述隔板設(shè)于所述烘烤腔內(nèi)以將所述烘烤腔分隔為第一腔體和第二腔體,所述隔板上設(shè)有第一風(fēng)口和第二風(fēng)口,所述氣體驅(qū)動(dòng)部件設(shè)于所述第一風(fēng)口,以用于驅(qū)動(dòng)氣體通過所述第一風(fēng)口和第二風(fēng)口在所述第一腔體和所述第二腔體之間循環(huán),所述加熱板設(shè)于所述第一腔體內(nèi),所述溶劑消除部件設(shè)于所述第二腔體內(nèi)。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,相對(duì)于所述第一腔體,所述第一風(fēng)口為進(jìn)風(fēng)口,所述第二風(fēng)口為出風(fēng)口,所述溶劑消除部件設(shè)于所述第二腔體內(nèi)且靠近所述第二風(fēng)口的位置。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述隔板包括隔板頂壁和隔板側(cè)壁,所述隔板頂壁與所述箱體的頂壁之間及所述隔板側(cè)壁與所述箱體的側(cè)壁之間均具有間隔,所述間隔形成所述第二腔體。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第一風(fēng)口和所述第二風(fēng)口設(shè)于所述隔板側(cè)壁上相對(duì)的位置。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述溶劑消除部件將所述第二腔體分隔為相互獨(dú)立的兩個(gè)子腔體,其中一個(gè)所述子腔體與所述第一風(fēng)口連通,另一個(gè)所述子腔體與所述第二風(fēng)口連通。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述溶劑消除部件包括殼體和設(shè)于所述殼體內(nèi)的吸附材料,所述殼體上設(shè)有氣孔。
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