[實(shí)用新型]大面積原子級(jí)精度激光分子束外延薄膜制備系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920470169.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210163516U | 公開(公告)日: | 2020-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱銀燕;葉碧瑩;郁揚(yáng);黃海明;王文彬;高春雷;吳施偉;殷立峰;沈健 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 復(fù)旦大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/28 | 分類號(hào): | C23C14/28;C23C14/50;C23C14/54;C30B23/02;C30B23/06 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陸飛;王潔平 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 大面積 原子 精度 激光 分子 外延 薄膜 制備 系統(tǒng) | ||
1.一種大面積原子級(jí)精度激光分子束外延薄膜制備系統(tǒng),其包括快速進(jìn)樣室、準(zhǔn)分子激光器、主腔、樣品架、靶臺(tái)、樣品加熱組件、透鏡組件、反射式高能電子衍射儀、熒光屏、氣體傳輸組件和機(jī)械泵;其特征在于,快速進(jìn)樣室、樣品架和反射式高能電子衍射儀分別通過法蘭口連接在主腔四周,靶臺(tái)位于主腔底部,并在主腔中軸線上,樣品架最前端位于靶臺(tái)正上方;樣品架的前端設(shè)有樣品槽,樣品槽中心為通孔,樣品槽中插入樣品托;樣品加熱組件位于主腔的正上方,樣品加熱組件包括紅外激光光纖、第二聚焦透鏡和支架,紅外激光光纖和第二聚焦透鏡固定在支架上,紅外激光光纖位于第二聚焦透鏡的上方,且位于第二聚焦透鏡的焦點(diǎn)處;透鏡組件包括第一聚焦透鏡、全反射鏡、兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)以及固定支架;固定支架上安裝滑軌,第一聚焦透鏡和全反射鏡安置在滑軌上,可以沿著固定支架上下移動(dòng);全反射鏡分別與第一步進(jìn)電機(jī)、第二步進(jìn)電機(jī)相連,使得全反射鏡可分別沿著第一旋轉(zhuǎn)軸和第二旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)動(dòng),第一旋轉(zhuǎn)軸和第二旋轉(zhuǎn)軸相互正交;透鏡組件通過固定支架固定在樣品加熱組件后方;準(zhǔn)分子激光器發(fā)出的激光通過透鏡組件引入主腔;氣體傳輸組件中包括波紋管和卡套管;反射式高能電子衍射儀通過兩根波紋管分別與快速進(jìn)樣室和機(jī)械泵相連,氧氣通過卡套管連入主腔內(nèi),卡套管有2根,其中一根指向樣品托中心,另外一根呈環(huán)形,靠近靶臺(tái)表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積原子級(jí)精度激光分子束外延薄膜制備系統(tǒng),其特征在于,樣品架中還包括面內(nèi)角旋轉(zhuǎn)軸、齒條和齒輪;面內(nèi)角旋轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)由樣品架前端的齒條帶動(dòng)齒輪實(shí)現(xiàn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積原子級(jí)精度激光分子束外延薄膜制備系統(tǒng),其特征在于,樣品架和樣品托采用耐高溫耐高氧的鎳基合金。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積原子級(jí)精度激光分子束外延薄膜制備系統(tǒng),其特征在于,樣品槽和樣品架之間設(shè)有陶瓷墊片;樣品架前端部分為鏤空結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積原子級(jí)精度激光分子束外延薄膜制備系統(tǒng),其特征在于,第一步進(jìn)電機(jī)控制全反射鏡沿著第一旋轉(zhuǎn)軸在-10°~10°角度內(nèi)旋轉(zhuǎn),第二步進(jìn)電機(jī)控制全反射鏡沿著第二旋轉(zhuǎn)軸進(jìn)行0°~360°旋轉(zhuǎn)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





