[實用新型]聲學(xué)裝置及電子設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920461060.1
• 申請日: 2019-04-04
• 公開（公告）號: CN210298035U
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐同雁;郭翔;張成飛
• 申請（專利權(quán)）人: 歌爾科技有限公司
• 主分類號: H04R1/20
• 分類號: H04R1/20
• 代理公司: 深圳市世紀(jì)恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287
• 代理人: 胡海國

本實用新型提供了一種聲學(xué)裝置，聲學(xué)裝置上設(shè)置有出聲口；振動膜片后側(cè)形成密閉的密閉腔，密閉腔被間隔部間隔成第一密閉腔和第二密閉腔，間隔部可以至少部分柔性形變，第一密閉腔鄰接振動膜片，第二密閉腔遠(yuǎn)離振動膜片，第二密閉腔將柔性形變部在形變時產(chǎn)生的聲波封閉在第二密閉腔內(nèi)；在柔性形變部上設(shè)有連通第一密閉腔與第二密閉腔的均壓孔。此外，本實用新型還提出一種電子設(shè)備。本實用新型中的聲學(xué)裝置可以有效降低諧振頻率，整體上較大幅度提升產(chǎn)品的低頻段靈敏度。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及聲學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，更具體地，涉及一種聲學(xué)裝置及安裝有該聲學(xué)裝置的電子設(shè)備。

背景技術(shù)

一般而言，傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的聲學(xué)系統(tǒng)(現(xiàn)有技術(shù)1)包括封閉箱體和設(shè)置在封閉箱體上的發(fā)聲單元，封閉箱體與發(fā)聲單元之間形成腔室，由于聲學(xué)系統(tǒng)中的的腔室的容積限制，聲學(xué)系統(tǒng)尤其是小型聲學(xué)系統(tǒng)很難實現(xiàn)能令人滿意地再現(xiàn)低音的效果。常規(guī)地，為了在聲學(xué)系統(tǒng)中實現(xiàn)令人滿意的低音再現(xiàn)，通常采用兩種手段，一種是將吸音材料(例如活性炭、沸石等)設(shè)置于聲學(xué)系統(tǒng)的箱體內(nèi)，用于吸附或脫附箱體內(nèi)的氣體，起到容積增大進(jìn)而降低低頻諧振頻率的效果，另一種是在聲學(xué)系統(tǒng)的箱體上設(shè)置被動輻射體(現(xiàn)有技術(shù)2)，例如圖1所示，其中，10為發(fā)聲單元，20為聲學(xué)系統(tǒng)的箱體，30為被動輻射體，發(fā)聲單元和被動輻射體同時對外輻射聲音，利用被動輻射體與箱體在特定頻點fp(共振頻率點)形成強(qiáng)烈共振的原理，將發(fā)聲單元和被動輻射體兩者的聲波連通疊加，對共振頻率點fp附近局部靈敏度進(jìn)行增強(qiáng)(例如，參見專利CN1939086A)。但是上述兩種手段均存在問題，第一種在箱體中添加吸音材料的方案，需要實現(xiàn)吸音材料的良好密封封裝，否則如果吸音材料進(jìn)入揚(yáng)聲器單元，則損害揚(yáng)聲器單元的聲學(xué)性能，影響揚(yáng)聲器單元的使用壽命；第二種采用被動輻射體的方案，在共振頻率點fp附近，被動輻射體強(qiáng)烈輻射，發(fā)聲單元近乎停止，因此可以通過被動輻射體的高靈敏度設(shè)計，在fp附近頻段實現(xiàn)聲學(xué)系統(tǒng)的局部靈敏度增強(qiáng)；但在fp以下頻段，被動輻射體與發(fā)聲單元聲波相位相反，聲波相互抵消，被動輻射體對聲學(xué)系統(tǒng)靈敏度起負(fù)面作用。總言之，被動輻射體只能提升共振點附近頻段的靈敏度，不能對全部低頻段有所提升。如圖2所示，圖2是現(xiàn)有技術(shù)2與現(xiàn)有技術(shù)1在不同頻率下響度的測試曲線(SPL曲線)。所以有必要對現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷做進(jìn)一步的改進(jìn)。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的一個目的是提供一種有效降低諧振頻率，整體上較大幅度提升產(chǎn)品的低頻段靈敏度的聲學(xué)裝置。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供的技術(shù)方案是：為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出的聲學(xué)裝置，包括：發(fā)聲單元，所述發(fā)聲單元包括振動膜片，所述聲學(xué)裝置上設(shè)置有出聲口，所述振動膜片前側(cè)的聲波通過所述出聲口對外輻射；

所述振動膜片后側(cè)形成密閉的密閉腔，所述密閉腔被間隔部間隔成第一密閉腔和第二密閉腔，其中，所述間隔部可以至少部分柔性形變，所述第一密閉腔鄰接所述振動膜片，所述第二密閉腔遠(yuǎn)離所述振動膜片，所述第二密閉腔將所述柔性形變部在形變時產(chǎn)生的聲波封閉在所述第二密閉腔內(nèi)；

在所述柔性形變部上設(shè)有連通所述第一密閉腔與所述第二密閉腔的均壓孔。

優(yōu)選的，所述均壓孔為一個，所述均壓孔的孔徑為0.3-1.0mm。

優(yōu)選地，所述均壓孔為分散設(shè)置的若干微孔，每個所述微孔的孔徑為0.05mm至0.15mm。

優(yōu)選地，所述柔性形變部上設(shè)有覆蓋所述均壓孔的阻尼網(wǎng)布。

優(yōu)選地，所述發(fā)聲單元和所述第一密閉腔一一對應(yīng)設(shè)有多個，所述第二密閉腔設(shè)有一個，每個所述第一密閉腔與所述第二密閉腔之間的間隔部上設(shè)有柔性形變部。

優(yōu)選地，所述聲學(xué)裝置包括第一殼體，所述發(fā)聲單元安裝在所述第一殼體上形成發(fā)聲組件，所述發(fā)聲單元的振動膜片與所述第一殼體之間形成所述第一密閉腔；

所述聲學(xué)裝置包括第二殼體，所述發(fā)聲組件安裝于所述第二殼體中，所述第二殼體與所述第一殼體之間形成所述第二密閉腔；