[實用新型]用于等離子弧割炬的外固定罩

有效

• 申請號: 201920459686.9
• 申請日: 2019-04-04
• 公開（公告）號: CN209953979U
• 公開（公告）日: 2020-01-17
• 發明（設計）人: 陶玉梅
• 申請（專利權）人: 陶玉梅
• 主分類號: B23K10/00
• 分類號: B23K10/00
• 代理公司: 11429 北京中濟緯天專利代理有限公司
• 代理人: 趙海波

本實用新型涉及一種用于等離子弧割炬的外固定罩，它包括外固定罩本體(1)，所述外固定罩本體(1)外表面包括自前至后依次布置的第一錐面段(11)、第二錐面段(12)、第一平面段(13)、第二平面段(14)和螺紋段(15)，所述第二錐面段(12)內側前端設置有第一密封圈槽(2)，所述第一密封圈槽(2)內設置有密封圈(3)。本實用新型前部內側開設密封圈槽，密封圈設置于該密封圈槽內，由于外固定罩更換頻率遠低于屏蔽罩，因此大大降低了密封圈的更換頻率，減少了等離子割炬日常使用的材料消耗。

技術領域

本實用新型涉及一種用于等離子弧割炬的外固定罩，屬于等離子切割技術領域。

背景技術

現有的精細等離子割炬的基本配件包含：割炬主體、水管、電極、噴嘴、渦流環、帶渦流器的內固定罩、外固定罩、屏蔽罩。其中，水管安裝在主體內，電極、噴嘴、渦流環、內固定罩依次套在前一個配件上并安裝在割炬主體上，而屏蔽罩套在內固定罩上，外固定罩套在屏蔽罩上并安裝在割炬主體上。等離子割炬通過管線連接到電源和氣體控制臺。

當啟動電源后，通過電源電路板的電氣控制，電極與噴嘴之間形成引導電弧并轉移到被切割的金屬材料上，生成等離子弧，從而隨著數控機床的運動，對金屬材料進行切割。

期間，等離子弧聚集在電極的中心，隨著等離子氣的流動方向，依次通過噴嘴過道孔、屏蔽罩過道孔，到達被切割金屬上。等離子弧的溫度可達30000℃以上，但等離子氣和保護氣分別通過渦流環和渦流器形成旋轉渦流氣，在弧與配件過道孔之間形成一層保護層，因此配件不會被融化。但是，雖然配件在冷卻液的冷卻下，還是有局部地方溫度過高，產生氧化現象，從而造成我們所見的自然磨損情況。因此，在整個等離子系統的使用過程中，電極、噴嘴、屏蔽罩最易于損壞。

但是，在實際使用過程中，還存在一些異?，F象，導致配件易于損壞。例如，當穿孔和切割時，割縫中的金屬材料變成細小的熔渣，隨著割炬中的氣流，大部分被吹走，但有時有的熔渣會迎面返回，進入噴嘴與屏蔽罩的過道孔之間，從而導致灼傷兩者的噴射孔或形成雙弧，最終損壞配件。

渦流器一般被設計固定在內固定罩上，屏蔽罩固定設置于外固定罩上，內固定罩和外固定罩之間形成冷卻通道，屏蔽罩與外固定罩的連接位置處通過密封圈進行密封。現有技術中冷卻液與外固定罩接觸的散熱面積較小，散熱效果不理想，從而導致外固定罩和內固定罩的使用壽命較短；另外目前屏蔽罩與外固定罩之間的密封圈，其密封圈槽開設于屏蔽罩外側，由于屏蔽罩更靠近于噴嘴頭部，因此其更換頻率較高，遠遠高于外固定罩，從而大大增加了密封圈的消耗，增加了等離子割炬日常使用的材料成本。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是針對上述現有技術提供一種用于等離子弧割炬的外固定罩，其前部內側開設密封圈槽，密封圈設置于該密封圈槽內，由于外固定罩更換頻率遠低于屏蔽罩，因此大大降低了密封圈的更換頻率，減少了等離子割炬日常使用的材料消耗。

本實用新型解決上述問題所采用的技術方案為：一種用于等離子弧割炬的外固定罩，它包括外固定罩本體，所述外固定罩本體外表面包括自前至后依次布置的第一錐面段、第二錐面段、第一平面段、第二平面段和螺紋段，所述第二錐面段內側前端設置有第一密封圈槽，所述第一密封圈槽內設置有密封圈。

更進一步的，所述外固定罩本體的第二錐面段和第一平面段內側設置有多圈環狀凹面和環狀凸面，多圈環狀凹面和環狀凸面交錯間隔布置，所述環裝凸面上均勻設置有多個弧形凸條。

更進一步的，所述第一平直段外表面設置有直紋滾花。

更進一步的，所述第二平直段外表面設置有第二密封圈槽。

與現有技術相比，本實用新型的優點在于：

1、本實用新型前部內側開設密封圈槽，密封圈設置于該密封圈槽內，由于外固定罩更換頻率遠低于屏蔽罩，因此大大降低了密封圈的更換頻率，減少了等離子割炬日常使用的材料消耗；