[實用新型]用于基質輔助激光解析離子源型質譜儀的靶板定位機構

有效

• 申請號: 201920452213.6
• 申請日: 2019-04-04
• 公開（公告）號: CN209374399U
• 公開（公告）日: 2019-09-10
• 發明（設計）人: 宋家玉;蔡克亞;劉偉偉;李康康;張子奇;王曉龍;劉文釗;易玲;李闖
• 申請（專利權）人: 安圖實驗儀器（鄭州）有限公司
• 主分類號: H01J49/16
• 分類號: H01J49/16;H01J49/26
• 代理公司: 鄭州異開專利事務所(普通合伙) 41114
• 代理人: 王霞

1.一種用于基質輔助激光解析離子源型質譜儀的靶板定位機構，包括靶拖（1），所述靶拖（1）的安裝面內凹形成用于卡裝靶板（2）的安裝凹槽（3），其特征在于：在靠近所述安裝凹槽（3）拐角處的安裝凹槽（3）短邊上設置有橫向定位結構、安裝凹槽（3）長邊上設置有縱向定位結構。

2.根據權利要求1所述的用于基質輔助激光解析離子源型質譜儀的靶板定位機構，其特征在于：所述橫向定位結構和所述縱向定位結構相同。

3.根據權利要求2所述的用于基質輔助激光解析離子源型質譜儀的靶板定位機構，其特征在于：所述橫向定位結構和縱向定位結構均包括開設在所述安裝凹槽（3）側壁上的安裝孔，位于所述安裝孔內端的L形定位滑塊（4.1）內表面與密封設置在安裝孔內的復位彈簧（4.2）相固連，與所述L形定位滑塊（4.1）對應處的安裝凹槽（3）底壁邊緣處開設有限位槽（4.3），所述限位槽（4.3）內設置有限制L形定位滑塊（4.1）移動位置的限位擋塊（4.4）。

4.根據權利要求3所述的用于基質輔助激光解析離子源型質譜儀的靶板定位機構，其特征在于：所述安裝孔內設置有防止所述復位彈簧（4.2）彈出的密封堵塞（4.5）。

5.根據權利要求1所述的用于基質輔助激光解析離子源型質譜儀的靶板定位機構，其特征在于：位于所述安裝凹槽（3）左右兩側的靶拖（1）上對稱開設有一對弧形手指槽（5）。

6.根據權利要求1所述的用于基質輔助激光解析離子源型質譜儀的靶板定位機構，其特征在于：所述安裝凹槽（3）底壁中部嵌設有與所述靶板（2）鐵片相配合的磁鐵塊（6）。

7.根據權利要求1所述的用于基質輔助激光解析離子源型質譜儀的靶板定位機構，其特征在于：所述安裝凹槽（3）的另三拐角處分別開設有與所述靶板（2）拐角相配合的限位孔（7）。