[實用新型]快恢復二極管和電子設備有效
| 申請號： | 201920442031.0 | 申請日： | 2019-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN209592047U | 公開（公告）日： | 2019-11-05 |
| 發明（設計）人： | 郝瑞紅;肖秀光 | 申請（專利權）人： | 比亞迪股份有限公司;深圳比亞迪微電子有限公司 |
| 主分類號： | H01L29/861 | 分類號： | H01L29/861;H01L29/06 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 趙天月 |
| 地址： | 518118 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 第一導電類型 外延層 快恢復二極管 導電類型 陽極區 電子設備 上表面 襯底 本實用新型 開關頻率 制作工藝 軟度 延伸 穿過 制作 | ||
【權利要求書】：
1.一種快恢復二極管，其特征在于，包括：
第一導電類型襯底；
第一導電類型外延層，所述第一導電類型外延層設置在所述第一導電類型襯底的上表面上；
第二導電類型陽極區，所述第二導電類型陽極區設置在所述第一導電類型外延層的上表面上；
至少一個內壁粗糙的溝槽，至少一個所述溝槽貫穿所述第二導電類型陽極區并延伸至所述第一導電類型外延層中，或從所述第一導電類型外延層的上表面向所述第一導電類型外延層中延伸。
2.根據權利要求1所述的快恢復二極管，其特征在于，所述溝槽的截面的形狀選自矩形和U形中的至少一種。
3.根據權利要求1所述的快恢復二極管，其特征在于，還包括：氧化層，所述氧化層設置在所述溝槽的內壁上。
4.根據權利要求1所述的快恢復二極管，其特征在于，所述第一導電類型外延層為單層結構或依次層疊的摻雜離子濃度不同的多層結構。
5.根據權利要求1～4中任一項所述的快恢復二極管，其特征在于，所述溝槽內填充有金屬材料或半導體材料。
6.根據權利要求5所述的快恢復二極管，其特征在于，還包括：
背面金屬層，所述背面金屬層設置在所述第一導電類型襯底的下表面上；
正面金屬層，所述正面金屬層設置在所述第二導電類型陽極區的上表面上。
7.一種電子設備，其特征在于，包括權利要求1～6中任一項所述的快恢復二極管。
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