[實用新型]彩膜基板、顯示面板和顯示設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920441076.6 | 申請日: | 2019-04-02 |
| 公開(公告)號: | CN209590465U | 公開(公告)日: | 2019-11-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李澤堯 | 申請(專利權(quán))人: | 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 胡海國 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道水田村民*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 色阻 彩膜基板 阻塊 色阻單元 主間隔物 次間隔 本實用新型 黑色矩陣層 顯示面板 顯示設(shè)備 色阻層 基底 填充 制作工藝 疊設(shè) 排布 節(jié)約 | ||
本實用新型公開一種彩膜基板、顯示面板和顯示設(shè)備,所述彩膜基板包括基底、設(shè)于所述基底的黑色矩陣層、色阻層、至少一主間隔物及至少一次間隔物,所述黑色矩陣層包括多個黑色阻塊,所述黑色阻塊形成多個填充區(qū)域;所述色阻層包括多個第一、第二、第三色阻塊,所述第一、第二和第三色阻塊依次排布于所述填充區(qū)域內(nèi);所述主間隔物包括至少兩個不同的疊設(shè)于所述黑色阻塊上的色阻單元;所述次間隔物包括至少一個設(shè)于所述黑色阻塊上的色阻單元;一所述色阻單元與所述第一色阻塊、第二色阻塊和第三色阻塊中的一個材質(zhì)相同,所述次間隔物的高度小于主間隔物的高度。本實用新型技術(shù)方案可有效簡化彩膜基板的制作工藝并節(jié)約成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種彩膜基板、顯示面板和顯示設(shè)備。
背景技術(shù)
液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display,LCD)具有機身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點,得到了廣泛的應(yīng)用。如圖1所示,現(xiàn)有的液晶顯示器的顯示面板100’一般由彩膜基板(CF,Color Filter)、陣列基板(TFT,Thin Film Transistor)、夾于彩膜基板與陣列基板之間的液晶層及密封框膠組成。同時,液晶顯示器一般在彩膜基板上設(shè)置多個高彈性回復(fù)力的間隔物(PS,Photo Spacer)與陣列基板接觸,可以提高液晶盒內(nèi)各區(qū)域的盒厚均一性。
間隔物一般分為主間隔物和次間隔物,兩者直接有一定的高度差,即段差,該段差的設(shè)置影響顯示器的面壓和氣泡等問題。目前形成間隔物段差的方法中均是對主間隔物和次間隔物使用不同的處理方式使得兩者高度不同。且以上方法均是需要沉積多層,工藝復(fù)雜且成本高。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的主要目的是提供一種彩膜基板,旨在減少彩膜基板的沉積層數(shù)并形成間隔物段差,有效降低成本。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提出的彩膜基板包括:
基底;
黑色矩陣層,所示黑色矩陣層設(shè)于所述基底,所述黑色矩陣層包括多個成陣列間隔設(shè)置的黑色阻塊,所述黑色阻塊形成多個填充區(qū)域;
色阻層,所述色阻層包括多個第一色阻塊、多個第二色阻塊和多個第三色阻塊,沿所述黑色阻塊排列的方向上,所述第一色阻塊、第二色阻塊和第三色阻塊依次排布于所述填充區(qū)域內(nèi);
至少一主間隔物,所述主間隔物包括至少兩個不同的色阻單元,兩所述色阻單元疊設(shè)于所述黑色阻塊上;及
至少一次間隔物,所述次間隔物包括至少一個色阻單元,所述色阻單元設(shè)于所述黑色阻塊上;
一所述色阻單元與所述第一色阻塊、第二色阻塊和第三色阻塊中的一個材質(zhì)相同,在垂直于所述基底的方向上,所述次間隔物的高度小于主間隔物的高度。
可選地,所述主間隔物包括第一色阻單元和第二色阻單元,所述次間隔物包括所述第一色阻單元和第二色阻單元中的一個,所述主間隔物的色阻單元和所述次間隔物的色阻單元的高度相同。
可選地,所述主間隔物包括第一色阻單元、第二色阻單元和第三色阻單元,所述次間隔物包括所述第一色阻單元、第二色阻單元和第三色阻單元中的任意兩個,所述主間隔物的色阻單元與所述次間隔物的色阻單元高度相同。
可選地,所述主間隔物包括第一色阻單元、第二色阻單元和第三色阻單元,所述次間隔物包括所述第一色阻單元、第二色阻單元和第三色阻單元,所述主間隔物中的至少一個色阻單元的高度與所述次間隔物中對應(yīng)的色阻單元的高度不同。
可選地,所述主間隔物和次間隔物分別位于相鄰的兩所述黑色阻塊上。
可選地,所述主間隔物在所述基底的投影位于所述黑色阻塊在所述基底的投影范圍內(nèi)。
可選地,所述次間隔物于所述基底的投影位于所述黑色矩陣層在所述基底的投影范圍內(nèi)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





