[實(shí)用新型]制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920429428.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210131612U | 公開(公告)日: | 2020-03-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫科;李洪;孟曉峰;趙軼君;張勝權(quán) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇雙宇鎳業(yè)高科有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01J4/00 | 分類號(hào): | B01J4/00;B01J19/00;B01J19/26 |
| 代理公司: | 江陰市揚(yáng)子專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32309 | 代理人: | 隋玲玲 |
| 地址: | 214432 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 超細(xì)粉體 水霧 反應(yīng) 裝置 | ||
本實(shí)用新型涉及的一種制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置,它包括釜體、導(dǎo)液口、進(jìn)水口、水霧器和出料口;所述釜體頂面上設(shè)有一個(gè)導(dǎo)液口,所述導(dǎo)液口呈漏斗狀;所述釜體側(cè)壁上設(shè)有一個(gè)進(jìn)水口,所述釜體內(nèi)設(shè)有一個(gè)水霧器,所述水霧器通過水管與進(jìn)水口連接,所述水霧器設(shè)置在導(dǎo)液口正下方,所述釜體上部外壁上設(shè)有若干排汽口;所述釜體底部設(shè)有一個(gè)出料口,所述出料口下方設(shè)置有一個(gè)集料池。本實(shí)用新型在水霧器的底面傾斜開孔,使得高壓水匯集在物料下落路線上的一個(gè)聚焦點(diǎn),在聚焦點(diǎn)處將鎳液迅速打散凝固冷卻,得到高純度高均勻性的超細(xì)鎳粉。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及金屬粉體制備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置。
背景技術(shù)
超細(xì)鎳粉以其獨(dú)特的電磁性、催化性及大的表面效應(yīng)和體積效應(yīng)等性能,使其在導(dǎo)電漿料、電池材料、磁性材料、吸波及特種涂層等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。近年來,隨著我國(guó)工業(yè)的發(fā)展對(duì)超細(xì)鎳粉的需求量急劇增加,同時(shí)對(duì)超細(xì)鎳粉的性能提出更高的要求。
目前,超細(xì)鎳粉的制備工藝很多,我國(guó)用于工業(yè)化生產(chǎn)超細(xì)鎳粉的方法主要是液相還原法和蒸發(fā)冷凝法,存在的問題主要表現(xiàn)是:結(jié)晶度不高,粒度分布寬、不均勻,分散性差及表面特性差等,不能滿足高端領(lǐng)域?qū)Τ?xì)鎳粉的需求。因此,我國(guó)在超細(xì)鎳粉制備方面還需進(jìn)一步完善,開發(fā)新的制備技術(shù)。
霧化-熱分解法是將前驅(qū)體母液經(jīng)過高速霧化器產(chǎn)生微米級(jí)的霧滴并被氣流帶入高溫反應(yīng)器中發(fā)生熱分解,得到均勻粒徑的超細(xì)粉體材料。制備出平均顆粒尺寸為35mm的鎳粉。此法是一種生產(chǎn)具有獨(dú)特性質(zhì)微粒的重要方法,也是制備超細(xì)納米粉體的一種適合工業(yè)純生產(chǎn)的重要方法。20世紀(jì)90年代初, Nagashima等提出在H2/N2氣氛中超聲霧化-熱分解Ni(NO3)?6H2O和NiCl2?6H2O可獲得鎳粉。主要是利用了超聲波的高能分散機(jī)制,將目標(biāo)物前驅(qū)體母液經(jīng)過超聲霧化器產(chǎn)生微米級(jí)的霧滴,并隨著載氣體進(jìn)入高溫反應(yīng)器中發(fā)生熱分解反應(yīng),從而得到粒徑均勻的超細(xì)粉體材料。Wang等人在采用低壓霧化-熱解法制備納米鎳粉時(shí),通過對(duì)前驅(qū)體母液濃度、還原劑類型、氣體流速和壓力的對(duì)比研究,發(fā)現(xiàn)氣體流速和壓力對(duì)粉末的粒度、形貌和晶粒影響最大。因此,該方法的技術(shù)和設(shè)備有待改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足,提供一種制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置,節(jié)約成本,得到高純度高均勻性的超細(xì)粉體。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置,它包括釜體、導(dǎo)液口、進(jìn)水口、水霧器和出料口;所述釜體頂面上設(shè)有一個(gè)導(dǎo)液口,所述導(dǎo)液口呈漏斗狀;所述釜體側(cè)壁上設(shè)有一個(gè)進(jìn)水口,所述釜體內(nèi)設(shè)有一個(gè)水霧器,所述水霧器通過水管與進(jìn)水口連接,所述水霧器設(shè)置在導(dǎo)液口正下方,所述釜體上部外壁上設(shè)有若干排汽口;所述釜體底部設(shè)有一個(gè)出料口,所述出料口下方設(shè)置有一個(gè)集料池。
所述水霧器包括主體、進(jìn)料口、第一出水孔和水沖口;所述主體為一個(gè)中空的圓柱筒體,所述主體的中心處設(shè)有一個(gè)進(jìn)料口,所述主體的一側(cè)設(shè)有一個(gè)水沖口, 所述主體的底面上設(shè)有一圈第一出水孔,所述第一出水孔傾斜設(shè)置,所述第一出水孔的孔壁與進(jìn)料軸向成一個(gè)夾角A,所述一圈第一出水孔中的出水方向匯集于一個(gè)聚焦點(diǎn)。
一種制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置,所述夾角A為25°~35°。
一種制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置,所述第一出水孔的孔徑為0.5mm~0.9mm。
一種制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置,所述聚焦點(diǎn)距離主體底面9~11公分。
一種制備超細(xì)粉體的水霧化反應(yīng)釜裝置,所述主體的底面上還設(shè)有一圈第二出水孔,所述第二出水孔傾斜設(shè)置,所述第二出水孔的孔壁與進(jìn)料軸向成一個(gè)夾角B,所述一圈第二出水孔中的出水方向匯集于第一出水孔的聚焦點(diǎn)。
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