[實(shí)用新型]一種用于光學(xué)元件的新型真空吸盤有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920426876.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-03-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209872101U | 公開(公告)日: | 2019-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳興建;顧元元 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 成都貝瑞光電科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B66C1/02 | 分類號(hào): | B66C1/02 |
| 代理公司: | 51278 成都慕川專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 謝芳 |
| 地址: | 610041 四*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蓋體 真空吸孔 轉(zhuǎn)動(dòng)位置 真空管 真空吸嘴 盤體 連通 真空通孔 環(huán)形箍 光電技術(shù)領(lǐng)域 吸盤 使用靈活性 表面分布 光學(xué)元件 新型真空 地連接 可轉(zhuǎn)動(dòng) 上盤 匹配 封閉 | ||
1.一種用于光學(xué)元件的新型真空吸盤,其特征在于,包括:盤體、真空管和真空吸嘴,所述真空吸嘴沿所述盤體的表面分布并與所述真空管連通;所述真空吸嘴包括基體、蓋體和環(huán)形箍;所述基體固定連接于所述盤體,所述基體具有多個(gè)與所述真空管連通的真空吸孔;所述蓋體開設(shè)有多個(gè)用于同所述真空吸孔相匹配的真空通孔;所述蓋體由所述環(huán)形箍可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于所述基體,所述蓋體具有第一轉(zhuǎn)動(dòng)位置和第二轉(zhuǎn)動(dòng)位置;所述蓋體位于所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)位置時(shí),所述真空通孔同所述真空吸孔連通;所述蓋體位于所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)位置時(shí),所述蓋體將所述真空吸孔封閉。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述環(huán)形箍包括呈半環(huán)狀的第一箍體和第二箍體;所述第一箍體的端部具有第一耳部,所述第一耳部開設(shè)有螺孔;所述第二箍體的端部具有第二耳部,所述第二耳部開設(shè)有用于同所述螺孔相配合的配合通孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述蓋體的環(huán)形外壁具有沿其周向延伸的第一環(huán)形槽,所述基體的環(huán)形外壁具有沿其周向延伸的第二環(huán)形槽;所述第一箍體和所述第二箍體二者均具有用于同所述第一環(huán)形槽相配合的第一凸棱、以及用于同所述第二環(huán)形槽相配合的第二凸棱;其中,所述第一環(huán)形槽和所述第二環(huán)形槽二者的槽腔的橫截面均呈半圓狀,所述第一凸棱和所述第二凸棱二者的橫截面也均呈半圓狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述蓋體的靠近所述基體的一側(cè)具有呈圓錐狀的凸起部,所述凸起部同所述蓋體同軸設(shè)置;所述基體開設(shè)有用于同所述凸起部相配合的凹陷部,所述凹陷部也呈圓錐狀,所述凹陷部略大于所述凸起部,所述凹陷部與所述凸起部之間填充有潤(rùn)滑劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述蓋體的靠近所述基體的一側(cè)具有凹槽,所述凹槽呈圓柱狀且同所述蓋體同軸設(shè)置,所述凸起部位于所述凹槽的槽底;所述凹槽容置有封環(huán),所述封環(huán)包括同心設(shè)置的第一環(huán)體和第二環(huán)體,所述第一環(huán)體和所述第二環(huán)體之間由沿徑向延伸的加強(qiáng)筋連接;所述封環(huán)固定連接于所述凹槽的槽底并抵接于所述蓋體和所述基體之間,所述第一環(huán)體套設(shè)于所述凸起部并同所述凸起部的底部相貼合;所述第一環(huán)體、所述第二環(huán)體和所述加強(qiáng)筋三者的厚度相同,所述封環(huán)由硬質(zhì)的橡膠材料制成;所述蓋體位于所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)位置時(shí),所述加強(qiáng)筋將所述真空吸孔封閉。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述真空吸孔和所述真空通孔均呈十字型分布,所述加強(qiáng)筋也呈十字型分布。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述加強(qiáng)筋、所述第一環(huán)體和所述第二環(huán)體三者的遠(yuǎn)離所述蓋體的棱邊均做圓角處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述第一環(huán)體和所述第二環(huán)體二者的遠(yuǎn)離所述蓋體的一側(cè)均具有隆起部,所述隆起部分別沿所述第一環(huán)體和所述第二環(huán)體的周向延伸構(gòu)成環(huán)狀,所述隆起部的橫截面呈半圓狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述凸起部的凸起高度大于所述封環(huán)的厚度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型真空吸盤,其特征在于,所述盤體具有多個(gè)同心設(shè)置的環(huán)狀內(nèi)腔,所述環(huán)狀內(nèi)腔之間由徑向氣孔連通,所述真空管和真空吸嘴均同所述環(huán)狀內(nèi)腔連通。
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