[實用新型]一種用于硅片燒結爐的上料裝置

有效

• 申請號: 201920412520.1
• 申請日: 2019-03-29
• 公開（公告）號: CN209763747U
• 公開（公告）日: 2019-12-10
• 發明（設計）人: 鄭森平;江水德
• 申請（專利權）人: 衢州三盛電子有限公司
• 主分類號: F27B17/00
• 分類號: F27B17/00;F27D3/00;H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于硅片燒結爐的上料裝置，包括基座(1)，其特征在于：所述基座(1)的底部左右兩側均焊接有支架(2)，所述基座(1)的頂部左右兩側分別固定連接有第一支柱(3)和第二支柱(5)，所述第一支柱(3)和第二支柱(5)的頂部分別轉動連接有主動輥(4)和從動輥(6)，所述主動輥(4)和從動輥(6)的輥體之間套有傳送帶(7)，所述傳送帶(7)的帶體外側間隔均勻固定連接有傳送托(8)，所述主動輥(4)的輥軸一端穿過第一支柱(3)固定連接有從動輪(9)，所述基座(1)的左側通過固定座(10)固定連接有伺服電機(11)，所述伺服電機(11)的輸出軸端部固定連接有主動輪(12)，所述主動輪(12)和從動輪(9)之間通過皮帶(13)傳動連接，所述基座(1)的上端左側通過固定架(14)固定連接有料箱(15)，所述料箱(15)的內部左側固定安裝有電缸(16)，所述電缸(16)的輸出軸端部固定連接有推板(17)，所述料箱(15)的內部右側固定安裝有用于放置硅片的放置槽(18)，所述料箱(15)的箱體底部右側且放置槽(18)的右側正下方開設有漏口(19)，所述料箱(15)的箱體頂部對應放置槽(18)的位置開設有放置口(20)。

2.根據權利要求1所述的一種用于硅片燒結爐的上料裝置，其特征在于：所述傳送托(8)的內部開設有限位槽(21)，所述限位槽(21)的底部固定連接有緩沖墊(22)。

3.根據權利要求2所述的一種用于硅片燒結爐的上料裝置，其特征在于：所述限位槽(21)的上部為倒梯形結構，下部為長方體結構。

4.根據權利要求1所述的一種用于硅片燒結爐的上料裝置，其特征在于：所述基座(1)的上端中部通過第三支柱(23)轉動連接有用于支撐傳送帶(7)的支輥(24)。

5.根據權利要求1所述的一種用于硅片燒結爐的上料裝置，其特征在于：所述伺服電機(11)和電缸(16)均與硅片燒結爐的控制系統電性連接。

6.根據權利要求1所述的一種用于硅片燒結爐的上料裝置，其特征在于：所述基座(1)的頂部邊緣部固定連接有護欄。