[實用新型]一種芯片布局結構有效
| 申請號: | 201920393516.5 | 申請日: | 2019-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN209708977U | 公開(公告)日: | 2019-11-29 |
| 發明(設計)人: | 林貴同;曹攀 | 申請(專利權)人: | 北京普安信科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02 |
| 代理公司: | 11624 北京卓嵐智財知識產權代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人: | 郭智<國際申請>=<國際公布>=<進入國 |
| 地址: | 100102 北京市朝陽區望京西*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 單元矩陣 外圍電路單元 接地保護 芯片布局結構 本實用新型 布局設計 方法適合 復制功能 函數映射 芯片失效 周邊電路 周邊設置 槽設置 芯片 | ||
1.一種芯片布局結構,其特征在于,所述結構包括不可復制功能單元矩陣即PUF單元矩陣、外圍電路單元及接地保護槽;
在所述PUF單元矩陣周邊設置所述外圍電路單元;
所述接地保護槽設置在所述PUF單元矩陣與所述外圍電路單元之間。
2.如權利要求1所述的芯片布局結構,其特征在于,所述接地保護槽為凹槽結構,所述PUF單元矩陣設置在所述接地保護槽的凹槽內。
3.如權利要求2所述的芯片布局結構,其特征在于,所述PUF單元矩陣邊緣與所述接地保護槽之間的距離設置在0.5微米至2微米的范圍之間。
4.如權利要求1-3之一所述的芯片布局結構,其特征在于,所述接地保護槽包括高摻雜P型層、接地金屬及硅襯底。
5.如權利要求4所述的芯片布局結構,其特征在于,所述接地金屬與所述高摻雜P型層之間設置為歐姆接觸。
6.如權利要求5所述的芯片布局結構,其特征在于,
所述PUF單元矩陣的外圈PUF單元為虛擬狀態的PUF單元。
7.如權利要求5所述的芯片布局結構,其特征在于,
所述PUF單元矩陣的外兩圈PUF單元為虛擬狀態的PUF單元。
8.如權利要求5-7之一所述的芯片布局結構,其特征在于,
在所述PUF單元矩陣的PUF單元之間設置氧化隔離層。
9.如權利要求8所述的芯片布局結構,其特征在于,
所述外圍電路單元包括:讀出電路、選址電路、控制電路及偏置電路。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





