[實(shí)用新型]光發(fā)射模組及電子設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920378911.6
• 申請日: 2019-03-25
• 公開（公告）號: CN209622537U
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳冠宏;李宗政;周祥禾
• 申請（專利權(quán)）人: 南昌歐菲生物識別技術(shù)有限公司
• 主分類號: F21S2/00
• 分類號: F21S2/00;F21V5/04;G03B15/05;G03B21/20
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強(qiáng)

本申請公開了一種光發(fā)射模組。光發(fā)射模組包括發(fā)光層及擴(kuò)散層，擴(kuò)散層包括多個微透鏡及基底，基底包括相背設(shè)置的入光面及出光面，多個微透鏡在出光面上陣列排布，發(fā)光層用于向入光面投射光線；發(fā)光層包括多個光源，任意相鄰的兩個光源之間的間距為D1,發(fā)光層與擴(kuò)散層之間的距離為D2，D1小于或等于D2的十分之一；其中，多個光源中光源的數(shù)量大于或等于100。本申請?zhí)峁┑墓獍l(fā)射模組能夠形成亮度均勻的照明區(qū)域。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光發(fā)射模組及電子設(shè)備。

背景技術(shù)

三維(three dimensional,3D)成像技術(shù)是新一代人機(jī)交互技術(shù)的核心。3D成像系統(tǒng)通過發(fā)射模組向物體投射光線來計(jì)算物體的深度圖像。發(fā)射模組可以發(fā)射出特定的光線，發(fā)射模組中的光源通過多個發(fā)光元件后，改變光源的形狀，投射出特定的照明區(qū)域。

現(xiàn)有的多個發(fā)光元件通常呈二維陣列布置在光源的襯底上，此種布置方式下，容易導(dǎo)致發(fā)射模組投射出的照明區(qū)域的亮度分布不均，進(jìn)一步影響深度圖像的獲取。因此，如何實(shí)現(xiàn)發(fā)射模組投射出均勻的照明區(qū)域是急需解決的問題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本申請?zhí)峁┝艘环N光發(fā)射模組，所述光發(fā)射模組能夠形成亮度均勻的照明區(qū)域。本申請還提供一種電子設(shè)備。

第一方面，提供一種光發(fā)射模組。所述光發(fā)射模組包括發(fā)光層及擴(kuò)散層。所述擴(kuò)散層包括多個微透鏡及基底。所述基底包括相背設(shè)置的入光面及出光面。所述發(fā)光層用于向所述入光面投射光線。所述擴(kuò)散層能夠?qū)⑺霭l(fā)光層投射的光線進(jìn)行散射，以提高光線的柔和度。所述多個微透鏡在所述出光面上陣列排布。

所述發(fā)光層包括多個光源。任意相鄰的兩個光源之間的間距為D1。所述發(fā)光層與所述擴(kuò)散層之間的距離為D2。D1小于或等于D2的十分之一。其中，所述多個光源中光源的數(shù)量大于或等于100。

在本申請實(shí)施例中，所述多個光源中光源的數(shù)量越多，光源在有限的空間內(nèi)排布得越密集，使得所述發(fā)光層投射到所述擴(kuò)散層每個區(qū)域的能量越均勻，從而使得所述光發(fā)射模組形成的照明區(qū)域的光線更加均勻。

在本申請實(shí)施例中，D1小于或等于D2的十分之一，一方面保證所述發(fā)光層與所述擴(kuò)散層之間的距離較大，使得所述發(fā)光層中多個光源的光能夠投射到所述擴(kuò)散層中的多個微透鏡上。另一方面，保證所述發(fā)光層中任意相鄰的兩個光源之間的間距較小，使得所述發(fā)光層中多個光源的光投射到所述擴(kuò)散層中的多個微透鏡上的光均勻，從而使得所述光發(fā)射模組形成的照明區(qū)域的光線均勻。

具體地，各光源的光線透過微透鏡后，形成一個照明區(qū)域，所述多個光源的光線形成的多個照明區(qū)域迭加后，形成最終的照明區(qū)域。此時，多個照明區(qū)域的迭加，指的是多個照明區(qū)域完全重疊累加，或者多個照明區(qū)域部分重疊累加，且部分交錯排布。在發(fā)射模組的目標(biāo)工作距離下，任意相鄰的兩個光源之間的間距越小，兩個光源的光線透過微透鏡后形成的照明區(qū)域的位置差異越小，使得形成的照明區(qū)域亮度不會有明顯的起伏和中斷，從而使得所述光發(fā)射模組形成的照明區(qū)域的光線均勻。

其中，目標(biāo)工作距離越遠(yuǎn)，兩個光源的光線透過微透鏡后形成的照明區(qū)域的位置差異越小，也即，兩個光源的光線透過微透鏡后形成的照明區(qū)域重疊部分越多。當(dāng)目標(biāo)工作距離為5厘米時，兩個光源的光線透過微透鏡后形成的照明區(qū)域基本重合，單個光源形成照明區(qū)域的位置差異可忽略不計(jì)。

在一種實(shí)施方式中，單個所述微透鏡在所述基底上的投影的長邊的長度為D3。D3小于或等于D2的一半。

單個所述微透鏡在所述基底上的投影的長邊小于或等于間距的一半，相應(yīng)地，單個所述微透鏡在所述基底上的投影的短邊也小于或等于間距的一半。在本申請實(shí)施例中，D3小于或等于D2的一半，使得單個所述微透鏡的尺寸較小，使得在有限的空間內(nèi)排布微透鏡的數(shù)量越多，從而保證所述光發(fā)射模組形成的照明區(qū)域的光線更加均勻。