[實(shí)用新型]攪拌出料機(jī)構(gòu)、烹煮裝置、黏性顆粒設(shè)備及現(xiàn)制現(xiàn)售設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920364078.X | 申請(qǐng)日: | 2019-03-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210077362U | 公開(公告)日: | 2020-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐航 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海氦豚機(jī)器人科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | A47J27/00 | 分類號(hào): | A47J27/00;A47J31/00;A47J31/40;A47J31/44;G07F17/00 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
| 地址: | 200051 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 攪拌 機(jī)構(gòu) 烹煮 裝置 黏性 顆粒 設(shè)備 現(xiàn)制現(xiàn)售 | ||
1.一種黏性顆粒攪拌和出料機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:
儲(chǔ)品室,用于存儲(chǔ)黏性顆粒;
攪拌機(jī)構(gòu),安裝于所述儲(chǔ)品室內(nèi),所述攪拌機(jī)構(gòu)以第一方向旋轉(zhuǎn)時(shí)用于對(duì)所述儲(chǔ)品室內(nèi)存儲(chǔ)的黏性顆粒進(jìn)行攪拌,所述攪拌機(jī)構(gòu)以第二方向旋轉(zhuǎn)時(shí)用于將所述儲(chǔ)品室內(nèi)存儲(chǔ)的黏性顆粒進(jìn)行出料,所述第一方向與所述第二方向相反。
2.如權(quán)利要求1所述的黏性顆粒攪拌和出料機(jī)構(gòu),其特征在于,所述攪拌機(jī)構(gòu)位于所述儲(chǔ)品室的一相對(duì)側(cè)壁之間,所述儲(chǔ)品室另一相對(duì)側(cè)壁中之一側(cè)壁設(shè)有出料口,所述攪拌機(jī)構(gòu)以第一方向旋轉(zhuǎn)時(shí)僅向下旋轉(zhuǎn)途徑所述出料口,所述攪拌機(jī)構(gòu)以第二方向旋轉(zhuǎn)時(shí)僅向上旋轉(zhuǎn)途徑所述出料口。
3.如權(quán)利要求2所述的黏性顆粒攪拌和出料機(jī)構(gòu),其特征在于,所述攪拌機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)部和攪拌部,所述驅(qū)動(dòng)部根據(jù)第一指令帶動(dòng)所述攪拌部在所述儲(chǔ)品室內(nèi)以第一方向旋轉(zhuǎn)對(duì)所述黏性顆粒進(jìn)行攪拌,所述驅(qū)動(dòng)部根據(jù)第二指令帶動(dòng)所述攪拌部在所述儲(chǔ)品室內(nèi)以第二方向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)所述黏性顆粒至所述出料口。
4.如權(quán)利要求3所述的黏性顆粒攪拌和出料機(jī)構(gòu),其特征在于,所述出料口的出口方向向下傾斜,所述攪拌部相對(duì)于大地的水平面傾斜,待所述攪拌部以所述第二方向旋轉(zhuǎn)至所述出料口時(shí),所述攪拌部的面與所述出料口的出口傾斜方向一致,以使所述黏性顆粒在重力作用下由所述攪拌部滑移至所述出料口,再從所述出料口滑移出料。
5.如權(quán)利要求3所述的黏性顆粒攪拌和出料機(jī)構(gòu),其特征在于,所述攪拌部設(shè)有若干個(gè)漏液孔。
6.一種黏性顆粒烹煮裝置,其特征在于,包括:
儲(chǔ)品室,用于存儲(chǔ)已烹煮的黏性顆粒;
烹煮機(jī)構(gòu),用于對(duì)待烹煮的黏性顆粒進(jìn)行烹煮;
原料儲(chǔ)室,用于存儲(chǔ)待烹煮的黏性顆粒;
第一出料機(jī)構(gòu),用于控制所述烹煮機(jī)構(gòu)將烹煮的黏性顆粒出料至所述儲(chǔ)品室;
第二出料機(jī)構(gòu),用于控制所述原料儲(chǔ)室將存儲(chǔ)的待烹煮的黏性顆粒出料至所述烹煮機(jī)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求6所述的黏性顆粒烹煮裝置,其特征在于,所述烹煮機(jī)構(gòu)和原料儲(chǔ)室分安裝于所述儲(chǔ)品室的同側(cè),且所述儲(chǔ)品室、原料儲(chǔ)室和烹煮機(jī)構(gòu)在位置關(guān)系上設(shè)置有相互銜接的出入口,所述第一出料機(jī)構(gòu)控制所述烹煮機(jī)構(gòu)通過所述烹煮機(jī)構(gòu)與儲(chǔ)品室之間相互銜接的出入口向所述儲(chǔ)品室出料已烹煮的黏性顆粒,及所述第二出料機(jī)構(gòu)控制所述原料儲(chǔ)室通過所述原料儲(chǔ)室與所述烹煮機(jī)構(gòu)之間相互銜接的出入口向所述烹煮機(jī)構(gòu)出料待烹煮的黏性顆粒。
8.如權(quán)利要求7所述的黏性顆粒烹煮裝置,其特征在于,所述原料儲(chǔ)室與所述烹煮機(jī)構(gòu)之間相互銜接的出入口為在位置關(guān)系上呈上下銜接的出入口;當(dāng)所述烹煮機(jī)構(gòu)相對(duì)所述儲(chǔ)品室靜止時(shí),所述烹煮機(jī)構(gòu)與所述儲(chǔ)品室之間相互銜接的出入口為在位置關(guān)系上呈水平銜接的出入口,當(dāng)所述烹煮機(jī)構(gòu)相對(duì)所述儲(chǔ)品室向上旋轉(zhuǎn)時(shí),所述烹煮機(jī)構(gòu)與所述儲(chǔ)品室之間相互銜接的出入口為在位置關(guān)系上呈傾斜銜接的出入口。
9.如權(quán)利要求8所述的黏性顆粒烹煮裝置,其特征在于,所述第一出料機(jī)構(gòu)控制所述烹煮機(jī)構(gòu)相對(duì)所述儲(chǔ)品室向上旋轉(zhuǎn)時(shí),所述烹煮機(jī)構(gòu)內(nèi)的黏性顆粒在重力的作用下通過傾斜銜接的出入口出料至所述儲(chǔ)品室;所述第二出料機(jī)構(gòu)控制所述原料儲(chǔ)室內(nèi)的黏性顆粒出料時(shí),所述原料儲(chǔ)室內(nèi)的黏性顆粒在重力的作用下通過上下銜接的出入口出料至所述烹煮機(jī)構(gòu)內(nèi)。
10.如權(quán)利要求8所述的黏性顆粒烹煮裝置,其特征在于,所述烹煮機(jī)構(gòu)包括烹煮室和加熱部;
所述烹煮室通過所述第一出料機(jī)構(gòu)安裝于所述儲(chǔ)品室的側(cè)壁,所述儲(chǔ)品室于所述烹煮室的安裝側(cè)開設(shè)有窗口,當(dāng)所述烹煮室相對(duì)所述儲(chǔ)品室靜止時(shí),所述烹煮室的開口部邊緣與所述窗口邊緣呈水平銜接狀態(tài),當(dāng)所述烹煮室相對(duì)所述儲(chǔ)品室向上旋轉(zhuǎn)時(shí),所述烹煮室的開口部與所述窗口呈傾斜銜接狀態(tài);
待所述第一出料機(jī)構(gòu)控制所述烹煮室向所述儲(chǔ)品室出料時(shí),所述烹煮室中的黏性顆粒通過所述窗口進(jìn)入所述儲(chǔ)品室;
所述加熱部安裝于所述烹煮室的底部,用于對(duì)所述烹煮室中的黏性顆粒進(jìn)行烹煮。
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