[實(shí)用新型]脫硝還原劑分布管與工業(yè)爐對(duì)流段脫硝還原劑分布裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920361071.2
• 申請(qǐng)日: 2019-03-20
• 公開（公告）號(hào): CN209985176U
• 公開（公告）日: 2020-01-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉建國;曹媛維;李錦輝;隋建偉;宋學(xué)明;王國峰;王琥;李磊;趙志謙;劉磊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國寰球工程有限公司
• 主分類號(hào): B01D53/56
• 分類號(hào): B01D53/56
• 代理公司: 11139 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 孫皓晨;李林

1.一種脫硝還原劑分布管，其特征在于：所述脫硝還原劑分布管一端具有流體入口，另一端封閉，且所述另一端經(jīng)往復(fù)彎折而形成朝同一方向曲折延伸的多個(gè)折彎段，在最后一個(gè)折彎段上沿軸向分布有多組流體出口，所述流體出口的出射方向背向于倒數(shù)第二個(gè)折彎段。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫硝還原劑分布管，其特征在于：所述多個(gè)折彎段處于同一平面上，或者相互交錯(cuò)布置而處于不同平面上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫硝還原劑分布管，其特征在于：在所述流體出口上還設(shè)有防灰帽，所述防灰帽具有能夠蓋住所述流體出口的導(dǎo)流錐以及與所述導(dǎo)流錐相連的卡爪，所述卡爪呈擴(kuò)大狀地勾住所述流體出口的內(nèi)側(cè)管壁，能夠防止所述導(dǎo)流錐掉落。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的脫硝還原劑分布管，其特征在于：所述導(dǎo)流錐的錐頂角介于10-90度之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫硝還原劑分布管，其特征在于：所述流體出口隨著與流體入口的距離增加，口徑逐一增大，或者口徑分區(qū)域逐漸增大。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫硝還原劑分布管，其特征在于：每一組流體出口呈并排布置。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫硝還原劑分布管，其特征在于：每一組流體出口呈交錯(cuò)布置。

8.一種工業(yè)爐對(duì)流段脫硝還原劑分布裝置，所述工業(yè)爐具有供高溫?zé)煔饬鞒龅幕旌贤ǖ溃龌旌贤ǖ谰哂袕纳嫌沃料掠蔚妮S向以及垂直于所述軸向的徑向，其特征在于：具有多根如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的脫硝還原劑分布管，所述脫硝還原劑分布管的折彎段沿徑向插入至所述混合通道內(nèi)，而且所述流體出口的出射方向朝向所述混合通道的下游。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的工業(yè)爐對(duì)流段脫硝還原劑分布裝置，其特征在于：所述流體出口的出射方向與所述混合通道的軸向具有0-85度的夾角。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的工業(yè)爐對(duì)流段脫硝還原劑分布裝置，其特征在于：在所述流體出口的下游不超過500mm范圍內(nèi)設(shè)有至少一個(gè)氣體混合單元，每個(gè)所述氣體混合單元由4-6個(gè)流線型葉片構(gòu)成。