[實用新型]一種光刻機高精度襯底定位裝置

有效

• 申請號: 201920354977.1
• 申請日: 2019-03-20
• 公開（公告）號: CN209560269U
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發明（設計）人: 唐陽明
• 申請（專利權）人: 上海圖雙精密裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光刻機高精度襯底定位裝置，包括襯底、第一定位輪、第二定位輪，其特征在于：第一定位輪和第二定位輪均設置于襯底的圓周面；第一定位輪設置于9點鐘方向，第二定位輪設置于6點鐘方向，第二定位輪的對面安裝有定位動作輪機構，定位動作輪機構包含有支撐桿，支撐桿的腰孔處安裝有伸縮氣缸，伸縮氣缸連接轉接桿，轉接桿通過支撐桿表面的轉軸連接導向臂，導向臂端面安裝有貼附在襯底圓周面的定位動作輪。

2.根據權利要求1所述一種光刻機高精度襯底定位裝置，其特征在于：所述襯底表面分別開設有固定第一定位輪和第二定位的凹槽。

3.根據權利要求1所述一種光刻機高精度襯底定位裝置，其特征在于：所述第一定位輪和第二定位輪采用相同的規格。