[實用新型]一種氣體噴灑模組

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920352486.3
• 申請日: 2019-03-20
• 公開（公告）號: CN210438835U
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 袁宏道;王富文
• 申請（專利權(quán)）人: 南通巨朔半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京和信華成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11390
• 代理人: 胡劍輝

本實用新型公開了一種氣體噴灑模組，氣體噴灑模組包括氣體噴灑模組本體，氣體噴灑模組本體為扁平狀，氣體噴灑模組本體的一側(cè)表面設(shè)有兩條螺旋型氣槽，兩條螺旋型氣槽的起始點均為氣體噴灑模組本體的中心點，其中一條螺旋型氣槽順時針向氣體噴灑模組本體的邊緣延伸，另一條螺旋型氣槽逆時針向氣體噴灑模組本體的邊緣延伸；氣體噴灑模組的另一側(cè)表面設(shè)有若干氣體噴灑口，氣體噴灑口沿著螺旋型氣槽的延伸方向均勻分布。本實用新型的有點在于：本技術(shù)方案的氣體噴灑模組作為反應(yīng)氣體供應(yīng)源，使氣體均勻分布，達到氣體均勻曾留的效果，進而能充分掌握鍍膜的品質(zhì)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種噴灑模組，尤其是一種使得氣體分布更加均勻的氣體噴灑模組。

背景技術(shù)

目前，導(dǎo)體設(shè)備反應(yīng)腔體內(nèi)的氣流不穩(wěn)定，為了使半導(dǎo)體設(shè)備反應(yīng)腔體內(nèi)的氣流穩(wěn)定，本技術(shù)方案在設(shè)備腔體上部安裝shower head作為反應(yīng)氣體供應(yīng)源，使氣體均勻分布，達到氣體均勻曾留的效果，進而能充分掌握鍍膜的品質(zhì)。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的提供一種使得氣體分布更加均勻的氣體噴灑模組，解決上述現(xiàn)有技術(shù)問題中的一個或者多個。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案為：一種氣體噴灑模組，其創(chuàng)新點在于：氣體噴灑模組包括氣體噴灑模組本體，氣體噴灑模組本體為扁平狀，氣體噴灑模組本體的一側(cè)表面設(shè)有兩條螺旋型氣槽，兩條螺旋型氣槽的起始點均為氣體噴灑模組本體的中心點，其中一條螺旋型氣槽順時針向氣體噴灑模組本體的邊緣延伸，另一條螺旋型氣槽逆時針向氣體噴灑模組本體的邊緣延伸；

氣體噴灑模組的另一側(cè)表面設(shè)有若干氣體噴灑口，氣體噴灑口沿著螺旋型氣槽的延伸方向均勻分布。

在一些實施方式中，氣體噴灑模組本體的螺旋型氣槽一側(cè)的表面邊緣還設(shè)有均勻分布的安裝孔。

在一些實施方式中，氣體噴灑模組本體為圓盤狀。

在一些實施方式中，氣體噴灑模組本體的氣體噴灑口一側(cè)的表面還設(shè)有防腐蝕鍍層。

本實用新型的有點在于：本技術(shù)方案的氣體噴灑模組作為反應(yīng)氣體供應(yīng)源，使氣體均勻分布，達到氣體均勻曾留的效果，進而能充分掌握鍍膜的品質(zhì)。

附圖說明

圖1為本實用新型一種氣體噴灑模組的正視圖。

圖2為本實用新型一種氣體噴灑模組的背視圖。

圖3為本實用新型一種氣體噴灑模組的側(cè)面剖視圖。

具體實施方式

下面結(jié)合說明書附圖，對本實用新型進行進一步詳細(xì)的說明。

如圖1至圖3所示的一種氣體噴灑模組，氣體噴灑模組包括氣體噴灑模組本體1，氣體噴灑模組本體1為扁平狀，氣體噴灑模組本體1的一側(cè)表面設(shè)有兩條螺旋型氣槽2，兩條螺旋型氣槽2的起始點均為氣體噴灑模組本體1的中心點，其中一條螺旋型氣槽2順時針向氣體噴灑模組本體1的邊緣延伸，另一條螺旋型氣槽2逆時針向氣體噴灑模組本體1的邊緣延伸；

氣體噴灑模組的另一側(cè)表面設(shè)有若干氣體噴灑口4，氣體噴灑口4沿著螺旋型氣槽2的延伸方向均勻分布。

在一些實施方式中，氣體噴灑模組本體1的螺旋型氣槽2一側(cè)的表面邊緣還設(shè)有均勻分布的安裝孔3，該安裝孔3的孔徑為1cm-1.5cm，方便安裝。

在一些實施方式中，氣體噴灑模組本體1為圓盤狀，圓盤狀適用度更廣，更美觀。

在一些實施方式中，氣體噴灑模組本體1的氣體噴灑口4一側(cè)的表面還設(shè)有防腐蝕鍍層5，可以防止氣體噴灑模組本體1表面快速腐蝕。

在一些實施方式中，氣體噴灑口4的孔徑為2mm-3mm，氣體分布更加均勻。