[實用新型]一種陣列式合成裝置及噴墨合成儀

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920347589.0
• 申請日: 2019-03-18
• 公開（公告）號: CN209680084U
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王升啟;肖瑞;榮振;張立杰;劉麗艷;彭泳縉
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍軍事科學(xué)院軍事醫(yī)學(xué)研究院
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;B01J4/00
• 代理公司: 11463 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙)
• 代理人: 曹桓<國際申請>=<國際公布>=<進(jìn)入國

1.一種陣列式合成裝置，其特征在于，包括：至少一個反應(yīng)組件，所述反應(yīng)組件包括：蓋體、柔性墊體和限位件，

所述蓋體上設(shè)置有多個第一通孔，所述柔性墊體上設(shè)置有多個第二通孔，多個所述第一通孔與多個所述第二通孔一一對應(yīng)連通；

所述限位件上設(shè)置有多個限位槽，各所述限位槽內(nèi)均放置有合成載體，所述合成載體上設(shè)置有合成區(qū)，所述合成區(qū)設(shè)置有多個凹陷和/或多個凸起，各所述合成載體上的合成區(qū)與各所述第二通孔一一對應(yīng)設(shè)置，所述第一通孔、所述第二通孔和所述合成區(qū)形成反應(yīng)池；

所述柔性墊體位于所述蓋體與所述限位件之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列式合成裝置，其特征在于，所述限位件設(shè)置有第一接頭、第二接頭、第一液體通路和第二液體通路；

所述第一液體通路與所述第一接頭連通，所述第一液體通路通過第一單向開合機構(gòu)與所述限位槽連通，以使液體經(jīng)由所述第一液體通路流入所述限位槽；

所述第二液體通路與所述第二接頭連通，所述第二液體通路通過第二單向開合機構(gòu)與所述限位槽連通，以使液體經(jīng)由所述限位槽流入所述第二液體通路。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列式合成裝置，其特征在于，所述限位件的一側(cè)設(shè)置有限位筋，所述限位筋交錯分布并圍成多個所述限位槽，所述第一液體通路和所述第二液體通路均設(shè)置于所述限位筋上，所述限位筋具有用于連通所述第一液體通路和所述限位槽的第一連通口，所述第一單向開合機構(gòu)包括第一彈性擋片，所述第一彈性擋片的一端與位于所述第一連通口的一側(cè)的限位筋連接，所述第一彈性擋片的另一端與位于所述第一連通口的另一側(cè)的限位筋朝向所述限位槽的內(nèi)部的側(cè)面通過齒狀結(jié)構(gòu)咬合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列式合成裝置，其特征在于，所述蓋體設(shè)置有第三接頭、第四接頭和第三液體通路，第三液體通路與所述第三接頭和所述第四接頭連通，所述第三液體通路與各所述第一通孔連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列式合成裝置，其特征在于，所述第三接頭和所述第四接頭分別設(shè)置于所述蓋體的底部邊緣，所述限位件上與所述第三接頭和所述第四接頭相對的區(qū)域設(shè)置有定位槽，所述第三接頭和所述第四接頭能夠伸入對應(yīng)的所述定位槽。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列式合成裝置，其特征在于，所述第三液體通路包括橫向通路、縱向通路和分支通路，沿第一方向間隔分布的所述第一通孔為一排，兩排所述第一通孔為一組，同組內(nèi)兩排所述第一通孔之間設(shè)置有一條所述橫向通路，所述橫向通路沿第一方向延伸，所述橫向通路與相鄰的兩排所述第一通孔內(nèi)的各所述第一通孔分別通過所述分支通路連通，各所述橫向通路均與所述縱向通路連通，所述縱向通路沿第二方向延伸，所述第二方向與所述第一方向垂直。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列式合成裝置，其特征在于，還包括托載件，所述托載件設(shè)置有容置槽，所述反應(yīng)組件位于所述容置槽內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列式合成裝置，其特征在于，所述反應(yīng)組件的數(shù)量為多個，多個所述反應(yīng)組件均放置于所述容置槽內(nèi)。

9.一種噴墨合成儀，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-8任一項所述的陣列式合成裝置。