[實用新型]一種基材的卷對卷涂布設備

有效

• 申請號: 201920346525.9
• 申請日: 2019-03-18
• 公開（公告）號: CN209715486U
• 公開（公告）日: 2019-12-03
• 發明（設計）人: 劉軍;關敬黨
• 申請（專利權）人: 深圳市善營自動化股份有限公司
• 主分類號: B05B13/02
• 分類號: B05B13/02;B05B16/20;B05B13/04;B05B15/00
• 代理公司: 44281 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 郭燕;彭家恩<國際申請>=<國際公布>=

1.一種基材的卷對卷涂布設備，其特征在于，包括：

基材放卷裝置，用于間隔預設時間的釋放基材；

第一涂布裝置，其包括：第一真空吸附平臺和設置在第一真空吸附平臺上的第一涂布機構；所述第一真空吸附平臺用于在預設時間內吸附基材的反面；所述第一涂布機構用于在預設時間內對基材的正面涂布漿料，以形成正面涂層；

第二涂布裝置，其包括：第二真空吸附平臺和設置在第二真空吸附平臺上的第二涂布機構；所述第二真空吸附平臺用于在預設時間內吸附基材的正面；所述第二涂布機構用于在預設時間內對基材的反面涂布漿料，以形成反面涂層；

基材收卷裝置，用于間隔預設時間的收卷基材；

所述第一真空吸附平臺和所述第二真空吸附平臺的表面都設置有布設在各自表面用于均勻各自產生的吸附力的均壓層。

2.如權利要求1所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，所述第一真空吸附平臺和所述第二真空吸附平臺均包括：開設在各自表面的多個吸附孔，和設置在各自內部的空腔；所述空腔與所述多個吸附孔連通，且所述空腔外接真空設備；所述多個吸附孔用于在真空設備的作用下產生所述吸附力。

3.如權利要求2所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，所述第一真空吸附平臺和所述第二真空吸附平臺均還包括：設置在各自內部的干燥組件；所述第一真空吸附平臺上的干燥組件用于對所述正面涂層進行干燥，所述第二真空吸附平臺上的干燥組件用于對所述反面涂層進行干燥。

4.如權利要求3所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，所述第一真空吸附平臺和所述第二真空吸附平臺均還包括：設置在各自四周的壓合組件；所述第一真空吸附平臺上的壓合組件用于壓合住基材的正面邊緣，所述第二真空吸附平臺上的壓合組件用于壓合基材的反面邊緣。

5.如權利要求1所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，還包括：正面保護膜收卷裝置和反面保護膜收卷裝置；所述基材的正面設置有正面保護膜，反面設置有反面保護膜；所述正面保護膜收卷裝置用于在涂布所述正面涂層之前，剝離并收卷所述正面保護膜，其設置在所述基材放卷裝置與所述第一涂布裝置之間；所述反面保護膜收卷裝置用于在涂布所述反面涂層之前，剝離并收卷所述反面保護膜，其設置在所述第一涂布裝置和所述第二涂布裝置之間。

6.如權利要求5所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，還包括：正面保護膜放卷裝置和反面保護膜放卷裝置；所述正面保護膜放卷裝置用于釋放正面保護膜至所述正面涂層的表面，其設置在所述反面保護膜收卷裝置與所述第二涂布裝置之間；所述反面保護膜放卷裝置用于釋放反面保護膜至所述反面涂層的表面，其設置在所述第二涂布裝置與所述基材收卷裝置之間。

7.如權利要求1所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，還包括：第一預壓輥機構和第二預壓輥機構；所述第一預壓輥機構用于對所述正面涂層進行預壓；所述第二預壓輥機構用于對所述反面涂層進行預壓。

8.如權利要求7所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，第一預壓輥機構和所述第二預壓輥機構均包括一對輥面相接的預壓輥。

9.如權利要求1所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，所述第一涂布機構和所述第二涂布機構均包括：模頭，用于向模頭定量供入漿料的供料機構、用于驅動所述模頭上下移動的上下驅動組件，和用于驅動所述模頭移動以涂布的平移驅動組件；所述模頭具有用于進入漿料的進料口和用于噴出漿料的出料口，所述供料機構與所述進料口連通；所述第一涂布機構上的模頭的出料口正對于所述第一真空吸附平臺的表面，所述第二涂布機構上的模頭的出料口正對于所述第二真空吸附平臺的表面。

10.如權利要求1所述的卷對卷涂布設備，其特征在于，所述基材的寬度大于所述第一真空吸附平臺和所述第二真空吸附平臺的寬度。