[實(shí)用新型]集成式真空發(fā)生器

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920334630.0
• 申請(qǐng)日: 2019-03-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209621740U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡文靜;范根新;程前;李偉;王子龍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 阿爾貝斯（長(zhǎng)興）科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): F04F5/20
• 分類(lèi)號(hào): F04F5/20;F04F5/52;F04F5/44;B25B11/00
• 代理公司: 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

本實(shí)用新型提供了一種集成式真空發(fā)生器，包括供氣裝置、真空發(fā)生裝置和控制裝置；所述控制裝置包括真空壓力表、真空先導(dǎo)閥、破壞先導(dǎo)閥、閥芯以及閥體；所述真空發(fā)生裝置包括內(nèi)置真空發(fā)生管和真空腔；所述閥體設(shè)置有閥芯腔和閥內(nèi)通道；所述閥芯設(shè)置在所述閥芯腔內(nèi)；所述供氣裝置連通所述閥芯腔；所述閥芯腔通過(guò)閥內(nèi)通道連通所述真空先導(dǎo)閥和破壞先導(dǎo)閥。本實(shí)用新型中通過(guò)帶節(jié)能功能的真空壓力表對(duì)真空先導(dǎo)閥測(cè)量出的壓力，并根據(jù)該壓力值與預(yù)設(shè)定壓力區(qū)間進(jìn)行比較后，再進(jìn)行真空先導(dǎo)閥導(dǎo)通和斷開(kāi)狀態(tài)的切換，使得真空腔內(nèi)壓力保持在設(shè)定的范圍，防止被吸附的物體掉落，大幅消減了正壓空氣的消耗量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及真空元器件，具體地，涉及一種集成式真空發(fā)生器。

背景技術(shù)

真空發(fā)生器就是利用正壓氣源產(chǎn)生負(fù)壓的一種新型、高效、清潔、經(jīng)濟(jì)、小型的真空元器件，這使得在有壓縮空氣的地方，或在一個(gè)氣動(dòng)系統(tǒng)中同時(shí)需要正負(fù)壓的地方獲得負(fù)壓變得十分容易和方便。真空發(fā)生器廣泛應(yīng)用在工業(yè)自動(dòng)化中的機(jī)械、電子、包裝、印刷、塑料及機(jī)器人等領(lǐng)域。真空發(fā)生器的傳統(tǒng)用途是吸盤(pán)配合，進(jìn)行各種物料的吸附、搬運(yùn)，尤其適合于吸附易碎、柔軟、薄的非鐵、非金屬材料或球型物體。在這類(lèi)應(yīng)用中，一個(gè)共同特點(diǎn)是真空流量不高且多種功能齊備、具有靈敏、高效、準(zhǔn)確的工作方式。

公開(kāi)號(hào)為CN103016424B的發(fā)明專(zhuān)利中公開(kāi)了一種集成式真空發(fā)生器，包括供氣裝置、控制裝置和真空發(fā)生裝置，所述控制裝置設(shè)在所述真空發(fā)生裝置與所述供氣裝置之間的主氣道，所述控制裝置用來(lái)控制所述主氣道的通/斷，該真空發(fā)生器還包括真空破壞裝置及排氣腔，所述真空破壞裝置通過(guò)一真空破壞氣道與所述主氣道相貫通，所述排氣腔與所述真空發(fā)生裝置相通；所述真空發(fā)生裝置包括供氣腔、噴嘴、至少兩個(gè)真空發(fā)生腔，所述供氣腔與所述主氣道相連通，至少兩個(gè)真空發(fā)生腔并排設(shè)置且之間相連通；靠近供氣腔一側(cè)的所述真空發(fā)生腔通過(guò)噴嘴與所述供氣腔相連通，靠近排氣腔一側(cè)的真空發(fā)生腔通過(guò)噴管與所述排氣腔相連通；所述真空發(fā)生腔均與一真空腔的一端通過(guò)單向閥相連，真空腔的另一端設(shè)置有真空口；其中所述主氣道的供氣口、所述真空口、所述排氣腔的排氣口順序設(shè)置在真空發(fā)生器的一側(cè)；所述控制裝置包括控制板、控制閥、供氣開(kāi)關(guān)和破壞開(kāi)關(guān)，所述控制閥包括破壞電磁閥和供氣電磁閥，所述供氣開(kāi)關(guān)和破壞開(kāi)關(guān)分別通過(guò)第一分氣道和第二分氣道與所述主氣道相通，所述供氣電磁閥和破壞電磁閥分別對(duì)應(yīng)設(shè)在第一分氣道和第二分氣道上，分別對(duì)應(yīng)控制所述第一分氣道和第二分氣道的通/斷，供氣電磁閥和破壞電磁閥分別對(duì)應(yīng)通過(guò)控制第一分氣道和第二分氣道的通/斷，來(lái)分別對(duì)應(yīng)控制供氣開(kāi)關(guān)和破壞開(kāi)關(guān)的開(kāi)/關(guān)。該專(zhuān)利通過(guò)在主氣道上設(shè)置供氣開(kāi)關(guān)和破壞開(kāi)關(guān)，用于控制主氣道的斷/通和真空破壞氣道的斷/通，而供氣開(kāi)關(guān)和破壞開(kāi)關(guān)分別通過(guò)第一分氣道和第二分氣道與主氣道連通，第一分氣道和第二分氣道則分別由供氣電磁閥和破壞電磁閥控制其斷/通，所述真空破壞氣道上還設(shè)有節(jié)流裝置，通過(guò)調(diào)整節(jié)流裝置來(lái)控制真空破壞氣道內(nèi)的空氣流量，以此來(lái)調(diào)整真空破壞的速度。

然而，上述發(fā)明專(zhuān)利在集成式真空發(fā)生器仍然存在以下問(wèn)題：在將物體吸附住時(shí)，雖然設(shè)有單向閥，但依然無(wú)法避免漏氣，需要一直進(jìn)行供氣來(lái)防止物體掉落，因而會(huì)浪費(fèi)大量的氣流。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明的目的是提供一種集成式真空發(fā)生器。

根據(jù)本發(fā)明提供的集成式真空發(fā)生器，包括供氣裝置、真空發(fā)生裝置和控制裝置；所述控制裝置包括真空壓力表、真空先導(dǎo)閥、破壞先導(dǎo)閥、閥芯以及閥體；所述真空發(fā)生裝置包括內(nèi)置真空發(fā)生管和真空腔；

所述閥體設(shè)置有閥芯腔和閥內(nèi)通道；所述閥芯設(shè)置在所述閥芯腔內(nèi)；所述供氣裝置連通所述閥芯腔；所述閥芯腔通過(guò)閥內(nèi)通道連通所述真空先導(dǎo)閥和破壞先導(dǎo)閥；

當(dāng)所述真空壓力表測(cè)量出到所述真空腔內(nèi)的壓力低于預(yù)設(shè)定壓力區(qū)間的下限值時(shí)，所述真空先導(dǎo)閥呈導(dǎo)通狀態(tài)，所述閥內(nèi)通道通過(guò)所述真空先導(dǎo)閥連通所述內(nèi)置真空發(fā)生管；當(dāng)所述真空壓力表測(cè)量出到所述真空腔內(nèi)的壓力高于預(yù)設(shè)定壓力區(qū)間的上限值時(shí)，所述真空先導(dǎo)閥呈斷開(kāi)狀態(tài)，所述閥內(nèi)通道通過(guò)所述破壞先導(dǎo)閥連通所述真空發(fā)生裝置的真空腔。