[實用新型]處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920329089.4 | 申請日: | 2019-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN211741975U | 公開(公告)日: | 2020-10-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何濤 | 申請(專利權(quán))人: | 上海小麥互動企業(yè)發(fā)展有限公司 |
| 主分類號: | G06F1/18 | 分類號: | G06F1/18;G06F1/20 |
| 代理公司: | 寧波理文知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33244 | 代理人: | 謝華;孟湘明 |
| 地址: | 201103 上海市閔*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 | ||
1.處理裝置,其特征在于,包括:
至少一處理單元;
一輔助處理單元;以及
一殼體,其中所述殼體包括一連接主體,所述處理單元和所述輔助處理單元分別被安裝至所述連接主體的兩側(cè),并通過所述連接主體相互連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置,其中所述處理單元包括:
一底座;
一安裝側(cè)壁,所述安裝側(cè)壁自所述底座的一端垂直延伸形成;
一握持件,所述握持件被安裝于所述安裝側(cè)壁的外側(cè);
至少一子處理單元,所述子處理單元被可拆卸地安裝于所述底座;以及
至少一第一連接件,所述第一連接件自所述底座的側(cè)壁向外延伸形成,其中所述子處理單元連接于所述第一連接件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置,其中所述殼體包括一殼體底座,所述連接主體的兩端延伸向所述殼體底座的兩側(cè)壁,所述連接主體的兩側(cè)分別朝向所述殼體底座的前壁和所述殼體底座的后壁,其中自所述前壁至所述連接主體形成一安裝部,所述處理單元被可拆卸地安裝于所述安裝部,自所述后壁至所述連接主體形成一輔助部,所述輔助處理單元被安裝于所述輔助部。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的處理裝置,其中所述連接主體被設(shè)置一個或多個第二連接件,所述殼體底座包括一前壁,所述前壁被設(shè)置一個或多個安裝開口,所述安裝開口的周邊向所述殼體的內(nèi)側(cè)延伸形成一內(nèi)壁,所述內(nèi)壁環(huán)繞形成一支撐通道,各所述第二連接件分別朝向各所述支撐通道。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的處理裝置,其中所述處理單元通過所述安裝開口被安裝于所述支撐通道,所述第一連接件和所述第二連接件可拆卸地連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的處理裝置,其中所述輔助處理單元連接于所述第二連接件,所述處理單元通過所述第一連接件和所述第二連接件的連接同所述輔助處理單元連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的處理裝置,其中所述處理單元的所述底座和所述內(nèi)壁之間形成一散熱通道。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的處理裝置,其中所述輔助處理單元進(jìn)一步包括至少一散熱元件,所述散熱元件被設(shè)置于所述連接主體相對于所述處理單元的另一側(cè)的一輔助空間,其中所述輔助空間和所述散熱通道連通。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的處理裝置,其中所述殼體進(jìn)一步包括一蓋體,所述蓋體覆蓋所述殼體底座,其中所述蓋體具有兩蓋體側(cè)壁,各所述蓋體側(cè)壁和所述殼體底座的各所述側(cè)壁分別被對應(yīng)地設(shè)置至少一通風(fēng)口。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的處理裝置,其中所述處理單元的所述安裝側(cè)壁被設(shè)置至少一通孔,所述通孔同所述散熱通道連通。
11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置,其中所述處理單元包括多個所述子處理單元,各所述子處理單元分別被可拆卸地安裝于所述底座,其中各所述子處理單元分別獨立地連接于所述第一連接件,所述連接主體被設(shè)置一個或多個第二連接件,各所述子處理單元分別通過所述第二連接件同所述輔助處理單元連接。
12.根據(jù)權(quán)利要求4所述的處理裝置,其中所述輔助處理單元包括:
至少一供能元件,所述供能元件被設(shè)置于所述輔助部,各所述第二連接件分別連接于所述供能元件;
至少一存儲元件,所述存儲元件被設(shè)置于所述輔助部,各所述第二連接件分別連接于所述存儲元件;以及
至少一網(wǎng)絡(luò)控制元件,所述網(wǎng)絡(luò)控制元件被設(shè)置于所述輔助部,各所述第二連接件分別連接于所述網(wǎng)絡(luò)控制元件元件。
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