[實用新型]用于低溫氯化爐的返泥漿裝置及其低溫氯化爐

有效

• 申請號: 201920322337.2
• 申請日: 2019-03-14
• 公開（公告）號: CN209618908U
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 李玲瑜;查笑樂;周興;于聰聰;蘭松;謝虎;吳秋廷;王景輝;楊東升;楊飛
• 申請（專利權）人: 攀枝花攀鋼集團設計研究院有限公司
• 主分類號: C01G23/02
• 分類號: C01G23/02
• 代理公司: 成都虹橋專利事務所(普通合伙) 51124
• 代理人: 林天福

本實用新型公開了一種用于低溫氯化爐的返泥漿裝置及其低溫氯化爐，屬于冶金生產設備制造技術領域。提供一種能將收集回來的淋洗、精制泥漿返回爐內，從而對氯化爐反應溫度實現有效控制的用于低溫氯化爐的返泥漿裝置及其低溫氯化爐。所述的返泥漿裝置包括安裝組件和噴射返料組件，所述的噴射返料組件通過所述的安裝組件可拆卸的固裝在所述的低溫氯化爐上，所述噴射返料組件的鈦渣泥漿噴出端伸入所述的低溫氯化爐內。布置在所述低溫氯化爐的爐頂上的安裝組件和噴射返料組件均為多組，各組所述的安裝組件一一對應的分別與各組所述的噴射返料組件構成所述的返泥漿裝置，各組所述返泥漿裝置在所述的爐頂上均布。

技術領域

本實用新型涉及一種返泥漿裝置，尤其是涉及一種用于低溫氯化爐的返泥漿裝置，屬于冶金生產設備制造技術領域。本實用新型還涉及一種采用了所述返泥裝置的低溫氯化爐。

背景技術

低溫氯化是利用儲量豐富的鈦鐵礦，先將鈦精礦或鈦渣進行碳氮化制得碳化渣，然后于350～550℃的低溫進行沸騰氯化，克服鈣、鎂氧化物在氯中的干擾，最終生產出TiCl₄的工藝過程。

由于現行工藝條件的限制，低溫氯化時，溫度容易超限，碳化渣中的雜質氧化鈣、氧化鎂被氯化形成的氯化鈣、氯化鎂達到617℃的較低溫度時便會形成低熔點共晶物，進而會使氯化渣燒結成塊，阻礙氯化反應進行。同時，后續淋洗及精制工序產生的泥漿直接外排還會造成環境污染。

現有技術中，在低溫氯化生產過程中還沒有可供利用的能較好控制氯化爐氯化反應溫度的結構或裝置。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是：提供一種能將收集回來的淋洗、精制泥漿返回爐內，從而對氯化爐反應溫度實現有效控制的用于低溫氯化爐的返泥漿裝置，以及布置有所述返泥裝置的低溫氯化爐。

為解決上述技術問題所采用的技術方案是：一種用于低溫氯化爐的返泥漿裝置，所述的返泥漿裝置包括安裝組件和噴射返料組件，所述的噴射返料組件通過所述的安裝組件可拆卸的固裝在所述的低溫氯化爐上，所述噴射返料組件的鈦渣泥漿噴出端伸入所述的低溫氯化爐內。

進一步的是，所述的安裝組件包括安裝管和安裝連接法蘭，所述的安裝管通過其下端與所述的低溫氯化爐連接，所述的安裝連接法蘭與所述安裝管的上端固定連接，所述的噴射返料組件通過所述的安裝連接法蘭可拆卸的固裝在所述的低溫氯化爐上。

上述方案的優選方式是，所述的噴射返料組件包括噴射管組和返料管組，所述噴射管組的物料輸入端與所述返料管組的物料輸出端可卸的連接，所述噴射管組通過其中部與所述的安裝組件可拆卸的連接為一個整體，所述噴射管組的物料噴出端穿過所述的安裝組件后插入所述的低溫氯化爐內。

進一步的是，所述的噴射管組包括噴射管、連接法蘭和固定法蘭，所述的連接法蘭固裝在所述噴射管的物料輸出端上，所述的固定法蘭固裝在所述噴射管的中部，所述的噴射管組通過所述的連接法蘭與所述的返料管組連接，所述的噴射管組通過所述的固定法蘭與所述的安裝組件可拆卸的連接為一個整體。

上述方案的優選方式是，所述的返料管組包括返料管和返料連接法蘭，所述的返料連接法蘭固裝在所述返料管的輸出末端，所述的返料管組通過所述的返料連接法蘭與所述噴射管組的連接法蘭連接。

進一步的是，在所述安裝組件的安裝連接法蘭與所述的固定法蘭之間，以及所述的連接法蘭與所述的返料連接法蘭之間均布置有密封墊圈。

一種采用所述返泥漿裝置的低溫氯化爐，布置在所述低溫氯化爐的爐頂上的安裝組件和噴射返料組件均為多組，各組所述的安裝組件一一對應的分別與各組所述的噴射返料組件構成所述的返泥漿裝置，各組所述返泥漿裝置在所述的爐頂上均布。

進一步的是，沿周向，在所述低溫氯化爐的中部也均布有至少兩組所述的返泥漿裝置，各組所述噴射返料組件的噴出端的噴射方向沿豎直方向向下布置。