[實用新型]一種光學膜層結構、背光模組、液晶顯示裝置及電子設備

有效

• 申請號: 201920306108.1
• 申請日: 2019-03-11
• 公開（公告）號: CN210155478U
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發明（設計）人: 林峰;田浦延;周揚
• 申請（專利權）人: 深圳阜時科技有限公司
• 主分類號: G02F1/13357
• 分類號: G02F1/13357
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光學膜層結構，用于會聚背光光線以及透過檢測光線，其特征在于：所述光學膜層結構包括一個或多個膜層單元，每一膜層單元包括基底和多個微結構，所述基底包括相對的上表面和下表面，所述多個微結構在所述上表面上呈間隔排布，其中，所述上表面上未設置有所述微結構的間隔部分為第一平面，所述下表面至少包括與所述第一平面相對且平行的第二平面。

2.如權利要求1所述的光學膜層結構，其特征在于：當檢測光線通過平行且相對設置的所述第一平面和第二平面而透過所述膜層單元時，至少存在部分檢測光線的傳播方向不變，當背光光線入射至所述膜層單元并從所述微結構射出時發生會聚。

3.如權利要求2所述的光學膜層結構，其特征在于：所述下表面為一平面。

4.如權利要求1所述的光學膜層結構，其特征在于：所述多個微結構為三棱柱或三棱錐。

5.如權利要求4所述的光學膜層結構，其特征在于：所述多個微結構大小相同且等間隔排布。

6.如權利要求1所述的光學膜層結構，其特征在于：所述微結構的材料折射率與所述基底的材料折射率之間的差值絕對值大于或等于0且小于0.2。

7.如權利要求4所述的光學膜層結構，其特征在于：當所述光學膜層結構為單片膜層單元時，所述多個微結構為三棱錐，且在所述基底上呈多行多列排布；設定所述基底的下表面的面積為S1，設定所述基底的第一平面的總面積為S2；設定所述基底的第一平面的總面積S2占所述基底的下表面的面積S1的百分比為P，所述百分比P大于或等于40％且小于100％。

8.如權利要求7所述的光學膜層結構，其特征在于：所述百分比P大于或等于50％且小于100％。

9.如權利要求4所述的光學膜層結構，其特征在于：所述光學膜層結構為單片膜層單元時，所述多個微結構為三棱錐，且在所述基底上呈多行多列排布；所述基底上的第一平面沿行方向的寬度大于或等于5微米且小于50微米。

10.如權利要求4所述的光學膜層結構，其特征在于：當所述光學膜層結構包括第一膜層單元和第二膜層單元時，所述第一膜層單元和所述第二膜層單元層疊設置，其中，所述第一膜層單元上的多個微結構為三棱柱、且呈單行多列排布，所述第二膜層單元的多個微結構為三棱柱、且呈單列多行排布；設定所述第一膜層單元的基底的下表面的面積為S1，設定所述第一膜層單元的基底的第一平面的總面積為S2，設定所述第二膜層單元的基底的下表面的面積為S3，設定所述第二膜層單元的基底的第一平面的總面積為S4；設定所述第一膜層單元的第一平面的總面積S2占所述第一膜層單元的基底的下表面的面積S1的百分比為P1，設定所述第二膜層單元的基底的第一平面的總面積S4占所述第二膜層單元的基底的下表面的面積S3的百分比為P2；設定所述百分比P1與所述百分比P2的乘積為N，所述乘積N大于或等于40％且小于100％。

11.如權利要求10所述的光學膜層結構，其特征在于：所述百分比P大于或等于50％且小于100％。

12.如權利要求4所述的光學膜層結構，其特征在于：當所述光學膜層結構包括第一膜層單元和第二膜層單元時，所述第一膜層單元和所述第二膜層單元層疊設置，所述第一膜層單元上的多個微結構為三棱柱、且呈單行多列排布，所述第二膜層單元的多個微結構為三棱柱、且呈單列多行排布；所述第一膜層單元的基底上的第一平面的寬度大于或等于5微米且小于50微米，和/或所述第二膜層單元的基底上的第一平面的寬度大于或等于5微米且小于50微米。